[實用新型]納米粉體制備裝置有效
| 申請號： | 201721901244.2 | 申請日： | 2017-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN207951384U | 公開（公告）日： | 2018-10-12 |
| 發明（設計）人： | 樊海芳 | 申請（專利權）人： | 中納電子科技江蘇有限公司 |
| 主分類號： | B01J3/04 | 分類號： | B01J3/04;B01J19/08;B82Y40/00;C23C8/12;C04B35/581;C04B35/626 |
| 代理公司： | 江蘇圣典律師事務所 32237 | 代理人： | 賀翔 |
| 地址： | 214251 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空反應 納米粉體制備裝置 本實用新型 激光發射器 水平軌道 制備 生產成本低 氧氣通入口 托盤 氬氣 水平滑動 透光結構 通入口 側壁 粉體 | ||
【權利要求書】：
1.一種納米粉體制備裝置，其特征在于：包括內部設有托盤（3）的真空反應箱體（1）和位于真空反應箱體（1）上方的激光發射器（2）；所述的真空反應箱體（1）連接有抽真空機，真空反應箱體（1）上方為透光結構，側壁開有氬氣通入口（4），底部開有氧氣（5）通入口。
2.根據權利要求1所述的納米粉體制備裝置，其特征在于：所述的激光發射器（2）通過水平軌道安裝在真空反應箱體（1）上方，沿水平軌道在真空反應箱體（1）上方水平滑動。
3.根據權利要求1或2所述的納米粉體制備裝置，其特征在于：所述的托盤繞自身中心旋轉。
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