[實(shí)用新型]制備具有雙周期納米結(jié)構(gòu)細(xì)胞襯底的激光干涉光刻系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721895933.7
• 申請(qǐng)日: 2017-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN207833218U
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉鶴峰;王作斌;劉夢楠;翁占坤;宋正勛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長理納米生物技術(shù)（長春）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02B27/10
• 代理公司: 長春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 22210
• 代理人: 荊喆

1.一種制備具有雙周期納米結(jié)構(gòu)細(xì)胞襯底的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于，包括：

激光器，用于發(fā)出激光；

分光系統(tǒng)，包括刻有周期性納米柱陣列元件、周期性納米孔陣列元件或光柵陣列元件的光刻膠或石英，用于將射入的激光均勻分成多光束陣列；

其中，所述多光束陣列分為入射光束和調(diào)制光束；

光束整形系統(tǒng)，包括高反鏡和調(diào)制器；所述高反鏡將入射光束和反射光束反射至曝光系統(tǒng)；其中，所述入射光束和反射光束進(jìn)入曝光系統(tǒng)前還經(jīng)過調(diào)制器，所述調(diào)制器調(diào)整入射光束和反射光束的光強(qiáng)和偏振角度；

曝光系統(tǒng)，對(duì)射入的光束進(jìn)行曝光處理；

樣品臺(tái)，其布設(shè)在所述曝光系統(tǒng)下方，用于提供光束相交并形成干涉圖案的平臺(tái)。

2.如權(quán)利要求1所述的制備具有雙周期納米結(jié)構(gòu)細(xì)胞襯底的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)制器包括四分之一波片和偏振片。

3.如權(quán)利要求2所述的制備具有雙周期納米結(jié)構(gòu)細(xì)胞襯底的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于，所述激光器為He-Ne激光器。

4.如權(quán)利要求3所述的制備具有雙周期納米結(jié)構(gòu)細(xì)胞襯底的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于，所述偏振角度調(diào)整范圍為0-360°。