[實用新型]一種刻蝕裝置

有效

• 申請號: 201721881385.2
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN207651458U
• 公開（公告）日: 2018-07-24
• 發明（設計）人: 吳堅;蔣方丹;邢國強
• 申請（專利權）人: 蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯陽光電力集團有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種刻蝕裝置，其特征在于，包括：

旋轉組件(1)，所述旋轉組件(1)包括用于放置硅片的旋轉平臺(12)，所述旋轉平臺(12)能夠繞自身的中心軸線方向水平旋轉；

滴液組件(3)，所述滴液組件(3)包括設置于所述旋轉平臺(12)的上方的第一噴射部(4)和第二噴射部(5)，所述第一噴射部(4)和所述第二噴射部(5)能夠朝向所述旋轉平臺(12)噴射液體；及

收集槽(2)，所述收集槽(2)沿周向環繞所述旋轉平臺(12)設置，以收集所述旋轉平臺(12)甩出的液體。

2.根據權利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述旋轉組件(1)還包括基座(11)及固設于所述基座(11)的驅動部，所述驅動部與所述旋轉平臺(12)連接，以驅動所述旋轉平臺(12)相對于所述基座(11)水平旋轉；

所述收集槽(2)連接于所述基座(11)。

3.根據權利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述滴液組件(3)還包括支撐架(31)及轉動連接于所述支撐架(31)的安裝架(32)，所述第一噴射部(4)和所述第二噴射部(5)均設置于所述安裝架(32)上。

4.根據權利要求3所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述刻蝕裝置還包括鎖緊部(6)，所述鎖緊部(6)可拆卸的連接于所述安裝架(32)和所述支撐架(31)。

5.根據權利要求4所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述安裝架(32)為方形框架，包括第一連接梁(321)和連接于所述第一連接梁(321)的第二連接梁(322)，所述第一噴射部(4)設置于所述第一連接梁(321)上，所述第二噴射部(5)設置于所述第二連接梁(322)上；

所述鎖緊部(6)能夠穿過所述支撐架(31)與所述第一連接梁(321)和所述第二連接梁(322)可拆卸連接。

6.根據權利要求3所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述安裝架(32)為條形結構，所述第一噴射部(4)和第二噴射部(5)間隔設置。

7.根據權利要求5或6所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述第一噴射部(4)和所述第二噴射部(5)均包括若干個噴嘴。

8.根據權利要求7所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述第一噴射部(4)的若干個所述噴嘴串聯，所述第二噴射部(5)的若干個所述噴嘴串聯。

9.根據權利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述收集槽(2)包括槽本體(21)及連接于所述槽本體(21)的內擋板(22)和外擋板(23)，所述內擋板(22)位于所述旋轉平臺(12)的下方，所述外擋板(23)位于所述旋轉平臺(12)的外周且高于所述旋轉平臺(12)設置。

10.根據權利要求9所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述外擋板(23)包括連接于所述槽本體(21)的豎板(231)和連接于所述豎板(231)的斜板(232)，所述斜板(232)沿靠近所述旋轉組件(1)的方向傾斜并與所述豎板(231)之間設置有夾角。