[實(shí)用新型]一種刻蝕裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721881385.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207651458U | 公開(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳堅(jiān);蔣方丹;邢國(guó)強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州阿特斯陽(yáng)光電力科技有限公司;阿特斯陽(yáng)光電力集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 215129 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 旋轉(zhuǎn)平臺(tái) 噴射部 刻蝕裝置 旋轉(zhuǎn)組件 本實(shí)用新型 摻雜層 收集槽 滴液 去除 化學(xué)制劑 太陽(yáng)能電池技術(shù) 光電轉(zhuǎn)換效率 方向水平 硅片背面 刻蝕硅片 中心軸線 周向環(huán)繞 組件包括 反光率 噴射 背面 | ||
1.一種刻蝕裝置,其特征在于,包括:
旋轉(zhuǎn)組件(1),所述旋轉(zhuǎn)組件(1)包括用于放置硅片的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12),所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)能夠繞自身的中心軸線方向水平旋轉(zhuǎn);
滴液組件(3),所述滴液組件(3)包括設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)的上方的第一噴射部(4)和第二噴射部(5),所述第一噴射部(4)和所述第二噴射部(5)能夠朝向所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)噴射液體;及
收集槽(2),所述收集槽(2)沿周向環(huán)繞所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)設(shè)置,以收集所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)甩出的液體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)組件(1)還包括基座(11)及固設(shè)于所述基座(11)的驅(qū)動(dòng)部,所述驅(qū)動(dòng)部與所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)連接,以驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)相對(duì)于所述基座(11)水平旋轉(zhuǎn);
所述收集槽(2)連接于所述基座(11)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述滴液組件(3)還包括支撐架(31)及轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述支撐架(31)的安裝架(32),所述第一噴射部(4)和所述第二噴射部(5)均設(shè)置于所述安裝架(32)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述刻蝕裝置還包括鎖緊部(6),所述鎖緊部(6)可拆卸的連接于所述安裝架(32)和所述支撐架(31)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述安裝架(32)為方形框架,包括第一連接梁(321)和連接于所述第一連接梁(321)的第二連接梁(322),所述第一噴射部(4)設(shè)置于所述第一連接梁(321)上,所述第二噴射部(5)設(shè)置于所述第二連接梁(322)上;
所述鎖緊部(6)能夠穿過所述支撐架(31)與所述第一連接梁(321)和所述第二連接梁(322)可拆卸連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述安裝架(32)為條形結(jié)構(gòu),所述第一噴射部(4)和第二噴射部(5)間隔設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述第一噴射部(4)和所述第二噴射部(5)均包括若干個(gè)噴嘴。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述第一噴射部(4)的若干個(gè)所述噴嘴串聯(lián),所述第二噴射部(5)的若干個(gè)所述噴嘴串聯(lián)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述收集槽(2)包括槽本體(21)及連接于所述槽本體(21)的內(nèi)擋板(22)和外擋板(23),所述內(nèi)擋板(22)位于所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)的下方,所述外擋板(23)位于所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)的外周且高于所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(12)設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的刻蝕裝置,其特征在于,所述外擋板(23)包括連接于所述槽本體(21)的豎板(231)和連接于所述豎板(231)的斜板(232),所述斜板(232)沿靠近所述旋轉(zhuǎn)組件(1)的方向傾斜并與所述豎板(231)之間設(shè)置有夾角。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
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H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





