[實(shí)用新型]一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721880063.6 | 申請(qǐng)日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN207675368U | 公開（公告）日： | 2018-07-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 管信;于潮;陶曉軍;張俊 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 山東淄博漢能薄膜太陽能有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G01L27/00 | 分類號(hào)： | G01L27/00 |
| 代理公司： | 淄博佳和專利代理事務(wù)所 37223 | 代理人： | 商曉 |
| 地址： | 255086 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 濺射鍍膜設(shè)備 分子泵 真空計(jì) 模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器 機(jī)械泵 校準(zhǔn)室 標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì) 供氣系統(tǒng) 微調(diào)針閥 真空閥門 校正儀 技術(shù)設(shè)備 精準(zhǔn)控制 同一端口 抽氣 光伏 | ||
1.一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀，包括標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)（7）、濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)（12）、校準(zhǔn)室、分子泵（4）、機(jī)械泵（1）、第一模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器（6）和第二模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器（13），校準(zhǔn)室設(shè)置多個(gè)端口并分別連接供氣系統(tǒng)、標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)（7）、濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)（12）和分子泵（4），標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)（7）連接第一模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器（6），濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)（12）連接第二模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器（13），分子泵（4）與機(jī)械泵（1）連接，其特征在于：所述的供氣系統(tǒng)與校準(zhǔn)室之間設(shè)置微調(diào)針閥（10），所述的機(jī)械泵（1）與分子泵（4）共同連接在校準(zhǔn)室的同一端口，機(jī)械泵（1）和分子泵（4）之間設(shè)置真空閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀，其特征在于：所述的供氣系統(tǒng)和微調(diào)針閥（10）之間設(shè)置過濾器（11）。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀，其特征在于：所述的機(jī)械泵（1）和分子泵（4）之間通過波紋管（2）連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀，其特征在于：所述的機(jī)械泵（1）與校準(zhǔn)室之間設(shè)置真空閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀，其特征在于：所述的分子泵（4）與校準(zhǔn)室之間設(shè)置真空閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)校正儀，其特征在于：所述的標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)（7）和濺射鍍膜設(shè)備用真空計(jì)（12）分別通過KF連接頭（8）與校準(zhǔn)室連接。
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