[實用新型]二次預浸式半固化片含浸裝置有效
| 申請號： | 201721876745.X | 申請日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN207841826U | 公開（公告）日： | 2018-09-11 |
| 發明（設計）人： | 馮吉成;羅家寶;蔣勇新;楊慶飛;羅孝普;胡俊青 | 申請（專利權）人： | 東莞聯茂電子科技有限公司 |
| 主分類號： | B29B15/14 | 分類號： | B29B15/14 |
| 代理公司： | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人： | 徐勛夫 |
| 地址： | 523000 廣東省東莞市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 滾輪 含浸 預浸槽 溶劑 稀膠 次預 預浸 下沉 含浸槽 本實用新型 半固化片 含浸裝置 滾輪組 外露 浸式 轉動 方向相反 方向一致 工件傳送 依次設置 玻璃布 | ||
1.一種二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：包括有依工件傳送順序依次設置的溶劑預浸槽、稀膠預浸槽、含浸槽；
所述溶劑預浸槽內設置有溶劑預浸滾輪, 所述溶劑預浸滾輪的轉動方向與工件前進方向一致；
所述稀膠預浸槽內設置有稀膠預浸滾輪, 所述稀膠預浸滾輪的轉動方向與工件前進方向相反；
所述含浸槽內設置有含浸滾輪組, 所述含浸滾輪組包括有第一下沉含浸滾輪、外露含浸滾輪及第二下沉含浸滾輪；所述外露含浸滾輪所在高度均高于第一下沉含浸滾輪、第二下沉含浸滾輪所在高度。
2.根據權利要求1所述的二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：所述第一下沉含浸滾輪設置有一個；所述外露含浸滾輪和第二下沉含浸滾輪的設置數量相等,兩者均為一個以上。
3.根據權利要求1所述的二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：所述含浸槽的輸出側設置有并排設置的兩個擠膠輪。
4.根據權利要求1所述的二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：所述溶劑預浸槽與稀膠預浸槽之間設置有第一導向定位滾輪,所述稀膠預浸槽與含浸槽之間設置有第二導向定位滾輪。
5.根據權利要求4所述的二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：所述溶劑預浸滾輪所在高度高于稀膠預浸滾輪所在高度。
6.根據權利要求5所述的二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：所述第一導向定位滾輪所在高度低于溶劑預浸滾輪所在高度且高于稀膠預浸滾輪所在高度。
7.根據權利要求6所述的二次預浸式半固化片含浸裝置，其特征在于：所述第二導向定位滾輪至少設置有兩個；該兩個第二導向定位滾輪中,其一第二導向定位滾輪銜接于稀膠預浸滾輪的輸出側,另一第二導向定位滾輪銜接于第一下沉含浸滾輪的輸入側,前述其一第二導向定位滾輪所在高度低于另一第二導向定位滾輪所在高度。
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