[實(shí)用新型]一種基板處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721874620.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207781546U | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙康一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京冠和權(quán)律師事務(wù)所 11399 | 代理人: | 朱健;陳國軍 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 緩沖器 基板處理裝置 收容 供給藥液 移送泵 涂覆 被處理基板 本實(shí)用新型 基板 配管 加壓 | ||
1.一種基板處理裝置,其將藥液涂覆于被處理基板的表面,所述基板處理裝置的特征在于,包括:
收容緩沖器,其收容向所述被處理基板的表面供給的藥液;
藥液移送泵,其通過從所述緩沖器延長的第一配管得到藥液的供給,從而供給藥液,并且位于與所述收容緩沖器相同的高度或者下側(cè);
藥液噴嘴,其將從所述藥液移送泵得到供給的藥液涂覆于所述被處理基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,
從所述收容緩沖器通過第一配管傳遞至所述藥液移送泵的藥液因重力而自然下降并移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述第一配管從所述收容緩沖器的底面延長至所述藥液移送泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,
在所述收容緩沖器中,排氣口形成于藥液的收容高度的上側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,
以與收容于所述收容緩沖器的藥液通過第一配管移送至所述藥液移送泵的量一樣的量,從筒向所述收容緩沖器補(bǔ)充供給藥液。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,
當(dāng)所述收容緩沖器內(nèi)的藥液開始通過所述第一配管移送至所述藥液移送泵之后,從筒向所述收容緩沖器補(bǔ)充供給藥液,在所述收容緩沖器內(nèi)沒有填充藥液的空的空間的壓力保持比大氣壓低的狀態(tài),同時(shí)藥液通過所述第一配管移送至所述藥液移送泵。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述藥液移送泵設(shè)置有藥液收容部,通過對(duì)收容于所述藥液收容部的藥液進(jìn)行物理加壓并推擠來供給藥液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置,其特征在于,
在所述第一配管還設(shè)置有氣泡感知傳感器,氣泡感知傳感器在所述藥液從所述收容緩沖器移送至所述藥液收容部的期間,對(duì)氣泡的含量進(jìn)行測(cè)量,
如果通過所述氣泡感知傳感器測(cè)量出通過所述第一配管的藥液中含有規(guī)定的含量以上的氣泡,則關(guān)閉所述第一配管。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置,其特征在于,所述藥液移送泵為活塞泵,包括:
氣缸,其形成有流入端口和流出端口,并且形成有所述藥液收容部,流入端口與所述第一配管相連接,流出端口排出被推擠的藥液;
活塞,其在所述氣缸的內(nèi)部進(jìn)行往復(fù)移動(dòng),同時(shí)加壓面對(duì)所述藥液進(jìn)行物理推擠。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述流出端口形成于與所述活塞往復(fù)移動(dòng)的所述加壓面相面對(duì)的位置。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述活塞的所述加壓面為和所述氣缸的相對(duì)面相同的形狀,所述氣缸的相對(duì)面與所述加壓面相面對(duì)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置,其特征在于,
利用柔韌性材料的密封膜將所述活塞往復(fù)移動(dòng)的所述氣缸內(nèi)的第一空間和藥液流入后被排出的所述藥液收容部分開,所述密封膜的一部分固定于所述活塞,隨著所述活塞的往復(fù)移動(dòng)而一起移動(dòng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述密封膜利用埋頭螺絲固定于所述活塞的加壓面。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置,其特征在于,
所述流入端口位于所述活塞的往復(fù)移動(dòng)通道的側(cè)面。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置,其特征在于,
在所述活塞沒有遮擋所述流入端口的狀態(tài)下,從所述收容緩沖器向所述藥液收容部供給藥液。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





