[實(shí)用新型]晶圓處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721854614.1
• 申請(qǐng)日: 2017-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207611754U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 薛榮華;闞保國(guó);劉家樺
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 上海盈盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤

本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓處理裝置。所述晶圓處理裝置，包括處理腔室以及與所述處理腔室連接的容納腔，所述容納腔用于容納氣缸，所述容納腔包括多個(gè)與所述處理腔室連接的第一側(cè)板；至少一第一側(cè)板上設(shè)置有一第一開(kāi)口，所述第一開(kāi)口用于更換氣缸。本實(shí)用新型提高了氣缸更換的效率，避免了與氣缸連接的腔室長(zhǎng)時(shí)間閑置的問(wèn)題，從而提高了晶圓的生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓處理裝置。

背景技術(shù)

在晶圓的制造過(guò)程中，經(jīng)常需要使用密閉腔室，以將待處理的晶圓與外界環(huán)境隔離，在確保晶圓處理過(guò)程順利進(jìn)行的同時(shí)，也避免晶圓受到外界環(huán)境的干擾。為了實(shí)現(xiàn)腔室的密閉，一般來(lái)說(shuō)，都設(shè)置有一與所述腔室連接的氣缸，通過(guò)氣缸帶動(dòng)所述腔室密封門的開(kāi)關(guān)。

但是，氣缸在經(jīng)過(guò)一段時(shí)間的運(yùn)行后會(huì)產(chǎn)生氣體的泄露，從而導(dǎo)致腔體密封門開(kāi)關(guān)的延遲，對(duì)腔室內(nèi)工藝的進(jìn)行產(chǎn)生一定程度的影響。為了避免該問(wèn)題，在氣缸使用一段時(shí)間后，需要進(jìn)行更換。然而，為了避免氣缸在使用過(guò)程中受到外界環(huán)境的干擾，現(xiàn)有的氣缸被封閉于一由側(cè)板、操作板與底板圍繞而成的容納腔中，該容納腔與所述腔室連接、且與所述腔室的外殼采用一體化的設(shè)計(jì)。這樣，當(dāng)用戶需要對(duì)與所述腔室連接的氣缸進(jìn)行更換時(shí)，需要將構(gòu)成所述容納腔的側(cè)板、操作板與底板完全拆除。這不僅增加了氣缸更換的作業(yè)難度，而且進(jìn)行氣缸更換的操作耗時(shí)較長(zhǎng)，從而導(dǎo)致與氣缸連接的腔室長(zhǎng)時(shí)間的閑置，嚴(yán)重影響了晶圓的生產(chǎn)效率。

因此，如何提高氣缸更換的效率，簡(jiǎn)化氣缸更換的工藝操作步驟，以確保晶圓的生產(chǎn)效率，是目前亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型提供一種晶圓處理裝置，用以解決現(xiàn)有的氣缸更換效率較低、操作步驟復(fù)雜的問(wèn)題，進(jìn)而提高晶圓的生產(chǎn)效率。

為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種晶圓處理裝置，包括處理腔室以及與所述處理腔室連接的容納腔，所述容納腔用于容納氣缸，所述容納腔包括多個(gè)與所述處理腔室連接的第一側(cè)板；至少一第一側(cè)板上設(shè)置有一第一開(kāi)口，所述第一開(kāi)口用于更換氣缸。

優(yōu)選的，相對(duì)設(shè)置的兩個(gè)第一側(cè)板上分別設(shè)置有一第一開(kāi)口。

優(yōu)選的，兩個(gè)第一開(kāi)口關(guān)于所述容納腔的軸向?qū)ΨQ設(shè)置。

優(yōu)選的，還包括多個(gè)與所述處理腔室連接的第二側(cè)板，多個(gè)第一側(cè)板圍繞多個(gè)第二側(cè)板的外周設(shè)置，且所述氣缸位于由多個(gè)第二側(cè)板圍繞而成的腔體中；所述第二側(cè)板上與所述第一開(kāi)口對(duì)應(yīng)的位置設(shè)置有第二開(kāi)口。

優(yōu)選的，所述第一開(kāi)口和所述第二開(kāi)口的形狀均為矩形。

優(yōu)選的，所述第一開(kāi)口的尺寸大于或等于所述第二開(kāi)口的尺寸。

優(yōu)選的，所述第一開(kāi)口的高度為20cm。

優(yōu)選的，所述第一開(kāi)口的邊沿與所述第一側(cè)板的側(cè)邊沿之間的距離為5cm。

優(yōu)選的，所述第一開(kāi)口采用切割工藝制造而成。

本實(shí)用新型提供的晶圓處理裝置，通過(guò)設(shè)置多個(gè)側(cè)板構(gòu)成用于容納氣缸的容納腔，并在至少一側(cè)板上設(shè)置一用于更換氣缸的第一開(kāi)口，這樣，在對(duì)所述晶圓處理裝置中的氣缸進(jìn)行更換時(shí)，不需要將第一側(cè)板整體進(jìn)行拆除，降低了氣缸更換的作業(yè)難度，簡(jiǎn)化了氣缸更換的工藝操作步驟，提高了氣缸更換的效率，避免了與氣缸連接的腔室長(zhǎng)時(shí)間閑置的問(wèn)題，從而提高了晶圓的生產(chǎn)效率。

附圖說(shuō)明

附圖1是本實(shí)用新型具體實(shí)施方式中晶圓處理裝置的組合結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖2是本實(shí)用新型具體實(shí)施方式中容納腔的分解結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型提供的晶圓處理裝置的具體實(shí)施方式做詳細(xì)說(shuō)明。