[實(shí)用新型]一種靶材冷卻裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721851177.8 | 申請日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN208104529U | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉文卿;嚴(yán)佐毅;張龍;張麗 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽金美新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 李鑫 |
| 地址: | 安徽省淮南市壽縣新橋國際產(chǎn)業(yè)園新*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靶材 余料 本實(shí)用新型 靶材冷卻 冷卻 沉積薄膜 傳熱效率 濺射靶材 冷媒通道 對靶 簡易 | ||
本實(shí)用新型屬于濺射靶材領(lǐng)域,具體來說涉及一種靶材冷卻裝置,包括靶材、靶材余料,所述靶材與所述靶材余料為一整體,所述靶材余料上設(shè)置有若干冷媒通道;本實(shí)用新型簡易方便,能夠在不增加成本的基礎(chǔ)上直接對靶材進(jìn)行冷卻,大大降低靶材溫度,提高傳熱效率,并且能夠更加均勻的冷卻靶材,提高沉積薄膜的性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于濺射靶材領(lǐng)域,具體來說涉及一種靶材冷卻裝置。
背景技術(shù)
在濺射靶材生產(chǎn)過程中會發(fā)出大量的熱量,如果不及時(shí)進(jìn)行冷卻,容易造成局部燒焦或呈現(xiàn)晶粒化現(xiàn)象,而且當(dāng)濺射靶材的功率增大后,溫度也會隨之升高,高溫會使得濺射靶材的使用壽命減短,造成了大量的浪費(fèi),影響經(jīng)濟(jì)效益。
例如中國專利號201410124974.0公開了一種陰極電弧靶冷卻裝置包括靶座、靶材、及設(shè)在靶座內(nèi)部的多條冷卻水道,靶材嵌在靶座表面上;所述靶材與所述冷卻水道被銅板隔開,銅板使冷卻水道與靶材分屬不同的獨(dú)立空間,靶材與銅板相接觸;所述冷卻水道內(nèi)通過液體時(shí),銅板受液體壓力向靶材凸出。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于,利用銅片良好的傳導(dǎo)性導(dǎo)熱,同時(shí)利用銅片將靶材與冷卻水道隔開,其設(shè)備的冷卻效果好,又不影響真空設(shè)備及生產(chǎn)效率。但是該實(shí)用新型靶材與靶座為分體式并通過銅板導(dǎo)熱,其傳熱效率較低。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種靶材冷卻裝置,能夠?qū)Π胁闹苯舆M(jìn)行冷卻,提高傳熱效率。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種靶材冷卻裝置,包括靶材、靶材余料,所述靶材與所述靶材余料為一整體,所述靶材余料上設(shè)置有若干冷媒通道。
進(jìn)一步的,所述靶材余料對稱設(shè)置在所述靶材的端部。
進(jìn)一步的,所述冷媒通道對稱設(shè)置。
進(jìn)一步的,所述冷媒通道兩端分別為冷媒進(jìn)口和冷媒出口。
進(jìn)一步的,相鄰所述冷媒通道的冷媒進(jìn)口和冷媒出口位置相反。
進(jìn)一步的,所述冷媒通道為圓形或矩形。
進(jìn)一步的,所述冷媒通道設(shè)置為多層。
本實(shí)用新型的有益效果為:
1.本實(shí)用新型能夠直接對靶材進(jìn)行冷卻,大大降低靶材溫度,提高傳熱效率。
2.本實(shí)用新型能夠更加均勻的冷卻靶材,提高沉積薄膜的性能。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中所示:
1-靶材;2-靶材余料;3-冷媒通道。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
如圖1所示,一種靶材冷卻裝置,包括靶材1、靶材余料2,所述靶材1與所述靶材余料2為一整體,能夠直接對所述靶材1進(jìn)行冷卻,提高傳熱效率,大大降低所述靶材1的溫度,所述靶材余料2對稱設(shè)置在所述靶材1的端部,所述靶材余料2上設(shè)置有6條對稱的冷媒通道3,所述冷媒通道3兩端分別為冷媒進(jìn)口和冷媒出口,相鄰所述冷媒通道3的冷媒進(jìn)口和冷媒出口位置相反,能夠更加均勻的冷卻所述靶材1,提高沉積薄膜的性能。
其中,所述冷媒通道3為圓形或矩形。
其中,所述冷媒通道3設(shè)置為多層,能夠提高冷卻效果。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
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