[實(shí)用新型]一種靶材冷卻裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721851177.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208104529U | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉文卿;嚴(yán)佐毅;張龍;張麗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽金美新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 李鑫 |
| 地址: | 安徽省淮南市壽縣新橋國際產(chǎn)業(yè)園新*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靶材 余料 本實(shí)用新型 靶材冷卻 冷卻 沉積薄膜 傳熱效率 濺射靶材 冷媒通道 對(duì)靶 簡易 | ||
1.一種靶材冷卻裝置,其特征在于:包括靶材、靶材余料,所述靶材與所述靶材余料為一整體,所述靶材余料上設(shè)置有若干冷媒通道,所述靶材余料對(duì)稱設(shè)置在所述靶材的端部,所述冷媒通道對(duì)稱設(shè)置,所述冷媒通道兩端分別為冷媒進(jìn)口和冷媒出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1項(xiàng)所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于:相鄰所述冷媒通道的冷媒進(jìn)口和冷媒出口位置相反。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于:所述冷媒通道為圓形或矩形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種靶材冷卻裝置,其特征在于:所述冷媒通道設(shè)置為多層。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





