[實用新型]圓點型研磨盤組

有效

• 申請號: 201721843926.2
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN207771567U
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發明（設計）人: 張雷
• 申請（專利權）人: 臺州市永安機械有限公司
• 主分類號: B24B37/11
• 分類號: B24B37/11
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

本實用新型提供了一種圓點型研磨盤組，屬于機械技術領域。它解決了現有的研磨盤研磨面積大，研磨液無法進入導致研磨效果差的問題。本圓點型研磨盤組，包括呈圓盤狀的上研盤和呈圓盤狀的下研盤，上研盤的中部具有貫通的中心孔一，下研盤的中部具有貫通的中心孔二，上研盤的下表面具有若干小型研磨體一，每個小型研磨體一上均具有研磨面一，若干研磨面一在工作時位于同一平面，下研盤的上表面具有若干小型研磨體二，每個小型研磨體二上均具有研磨面二，若干研磨面二在工作時處于同一平面。本實用新型具有研磨面小、研磨效果好等優點。

技術領域

本實用新型屬于機械技術領域，涉及一種圓點型研磨盤組。

背景技術

現有的平面研磨工藝是在兩平面間均勻鋪上金剛砂，再使兩平面相對轉動，在兩個平面相對轉動時，兩相對于工件表面的運動對如金剛砂類的研磨粉施以一壓力，在壓力的影響下研磨粉相對于工件表面研磨滾動。大量實踐證明，金剛砂在上下兩平面的磨擦力的作用下，砂粒的運動軌跡向研磨盤的旋轉中心流動，從而造成了研磨盤表面的不均勻磨削。

為此，中國專利公開了一種研磨盤[公告號CN206550811U]，包括箱體以及位于箱體頂部的研磨盤本體，箱體內設置空腔，空腔內設置驅動研磨盤本體轉動的轉動機構，研磨盤本體上方設置多邊形板，箱體上設置有位于研磨盤本體內的若干卡圈，多邊形朝下分別間隔設置有小型打磨盤和吸盤，多邊型板上設置與吸盤配合的電生磁機構，箱體上還設置有豎直的轉動桿，轉動桿與多邊形板之間設置用于出料的傳送機構，打磨盤與傳送機構之間設置回收架。其存在以下問題：1、小型打磨盤的表面積大，研磨液無法進入到小型打磨盤與工件之間，打磨效果差；2、下壓時多邊形板會發生輕微的形變，導致各小型打磨盤與工件表面接觸不均勻，導致研磨不均勻。

發明內容

本實用新型的目的是針對現有的技術存在上述問題，提出了一種

本實用新型的目的可通過下列技術方案來實現：

圓點型研磨盤組，包括呈圓盤狀的上研盤和呈圓盤狀的下研盤，所述上研盤的中部具有貫通的中心孔一，所述下研盤的中部具有貫通的中心孔二，其特征在于，所述上研盤的下表面具有若干小型研磨體一，每個小型研磨體一上均具有研磨面一，若干所述的研磨面一在工作時位于同一平面，所述下研盤的上表面具有若干小型研磨體二，每個小型研磨體二上均具有研磨面二，若干所述的研磨面二在工作時處于同一平面。

在上述的圓點型研磨盤組中，所述的小型研磨體一呈圓柱狀且垂直于上研盤的下表面設置，每個所述的研磨面一與上研盤的下表面平行，所述的小型研磨體二呈圓柱狀且垂直于下研盤的上表面設置，每個所述的研磨面二與下研盤的上表面平行。

在上述的圓點型研磨盤組中，所述上研盤的下表面具有若干相互平行設置的研磨排一，位于最中間的研磨排一與上研盤的徑線重合，任意兩相鄰研磨排一之間的距離相等，且兩相鄰研磨排一之間的距離大于兩倍小型研磨體一的直徑，所述的研磨排一由若干上述的小型研磨體一呈單排均勻排列而成。

在上述的圓點型研磨盤組中，所述上研盤的下表面還具有若干與研磨排一平行設置的研磨排二，所述的研磨排一與研磨排二間隔設置，所述的研磨排一至與其相鄰設置的研磨排二的距離相等，所述的研磨排二由若干上述的小型研磨體一呈單排均勻排列而成，所述研磨排二中兩相鄰的小型研磨體一之間的距離與研磨排一中兩相鄰的小型研磨體一之間的距離相等，所述的研磨排二中小型研磨體一的圓心位于研磨排一中與之對應設置的兩相鄰小型研磨體一連線的中線上。

在上述的圓點型研磨盤組中，所述上研盤的上表面具有若干相互平行設置的研磨排三，位于最中間的研磨排三與下研盤的徑線重合，任意兩相鄰研磨排三之間的距離相等，且兩相鄰研磨排三之間的距離大于兩倍小型研磨體二的直徑，所述的研磨排三由若干上述的小型研磨體二呈單排均勻排列而成。