[實用新型]圓點型研磨盤組有效
| 申請號: | 201721843926.2 | 申請日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN207771567U | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發明(設計)人: | 張雷 | 申請(專利權)人: | 臺州市永安機械有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/11 | 分類號: | B24B37/11 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
| 地址: | 317500 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 研磨面 研磨盤 研磨體 研磨 上研盤 下研盤 圓點 本實用新型 圓盤狀 中心孔 貫通 機械技術領域 上表面 下表面 研磨液 | ||
1.一種圓點型研磨盤組,包括呈圓盤狀的上研盤(1)和呈圓盤狀的下研盤(2),所述上研盤(1)的中部具有貫通的中心孔一(3),所述下研盤(2)的中部具有貫通的中心孔二(4),其特征在于,所述上研盤(1)的下表面具有若干小型研磨體一(5),每個小型研磨體一(5)上均具有研磨面一,若干所述的研磨面一在工作時位于同一平面,所述下研盤(2)的上表面具有若干小型研磨體二(6),每個小型研磨體二(6)上均具有研磨面二,若干所述的研磨面二在工作時處于同一平面。
2.根據權利要求1所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述的小型研磨體一(5)呈圓柱狀且垂直于上研盤(1)的下表面設置,每個所述的研磨面一與上研盤(1)的下表面平行,所述的小型研磨體二(6)呈圓柱狀且垂直于下研盤(2)的上表面設置,每個所述的研磨面二與下研盤(2)的上表面平行。
3.根據權利要求2所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述上研盤(1)的下表面具有若干相互平行設置的研磨排一(7),位于最中間的研磨排一(7)與上研盤(1)的徑線重合,任意兩相鄰研磨排一(7)之間的距離相等,且兩相鄰研磨排一(7)之間的距離大于兩倍小型研磨體一(5)的直徑,所述的研磨排一(7)由若干上述的小型研磨體一(5)呈單排均勻排列而成。
4.根據權利要求3所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述上研盤(1)的下表面還具有若干與研磨排一(7)平行設置的研磨排二(8),所述的研磨排一(7)與研磨排二(8)間隔設置,所述的研磨排一(7)至與其相鄰設置的研磨排二(8)的距離相等,所述的研磨排二(8)由若干上述的小型研磨體一(5)呈單排均勻排列而成,所述研磨排二(8)中兩相鄰的小型研磨體一(5)之間的距離與研磨排一(7)中兩相鄰的小型研磨體一(5)之間的距離相等,所述的研磨排二(8)中小型研磨體一(5)的圓心位于研磨排一(7)中與之對應設置的兩相鄰小型研磨體一(5)連線的中線上。
5.根據權利要求4所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述上研盤(1)的上表面具有若干相互平行設置的研磨排三(9),位于最中間的研磨排三(9)與下研盤(2)的徑線重合,任意兩相鄰研磨排三(9)之間的距離相等,且兩相鄰研磨排三(9)之間的距離大于兩倍小型研磨體二(6)的直徑,所述的研磨排三(9)由若干上述的小型研磨體二(6)呈單排均勻排列而成。
6.根據權利要求5所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述下研盤(2)的上表面還具有若干與研磨排三(9)平行設置的研磨排四(10),所述的研磨排三(9)與研磨排四(10)間隔設置,所述的研磨排三(9)至與其相鄰設置的研磨排四(10)的距離相等,所述的研磨排四(10)由若干上述的小型研磨體二(6)呈單排均勻排列而成,所述研磨排四(10)中兩相鄰的小型研磨體二(6)之間的距離與研磨排三(9)中兩相鄰的小型研磨體二(6)之間的距離相等,所述的研磨排四(10)中小型研磨體二(6)的圓心位于研磨排三(9)中與之對應設置的兩相鄰小型研磨體二(6)連線的中線上。
7.根據權利要求6所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述小型研磨體二(6)的外徑大于小型研磨體一(5)的外徑。
8.根據權利要求7所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述的小型研磨體一(5)的直徑為6mm,所述研磨排一(7)至相鄰研磨排二(8)之間的距離為6.26mm。
9.根據權利要求8所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述的小型研磨體二(6)的直徑為12mm,所述研磨排一(7)至相鄰研磨排二(8)之間的距離為12.12mm。
10.根據權利要求1所述的圓點型研磨盤組,其特征在于,所述的研磨面一至上研盤(1)下表面的距離為3mm,所述的研磨面二至下研盤(2)上表面的距離為3mm。
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