[實(shí)用新型]一種半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721816880.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207993809U | 公開(公告)日: | 2018-10-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁鵬;古進(jìn);郭榮;簡青青;壽強(qiáng)亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國振華集團(tuán)永光電子有限公司(國營第八三七廠) |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 貴陽睿騰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 52114 | 代理人: | 谷慶紅 |
| 地址: | 550018 貴州省*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 籃架 支架 腐蝕 半導(dǎo)體器件 本實(shí)用新型 腐蝕裝置 支架安裝 堿腐蝕 酸洗盤 流轉(zhuǎn) 后續(xù)產(chǎn)品 噴淋清洗 設(shè)備兼容 生產(chǎn)效率 市場(chǎng)推廣 水平布置 酸堿腐蝕 提手安裝 上端 酸腐蝕 提掛式 提手 涂覆 生產(chǎn)工藝 清洗 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,包括提手(1)、籃架(2)、酸洗盤(3)、支架(4),其特征在于:所述支架(4)安裝在支架(4)內(nèi),所述支架(4)安裝在籃架(2)內(nèi),所述提手(1)安裝在籃架(2)的上端,所述酸洗盤(3)在支架(4)內(nèi)上下水平布置有若干排。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述酸洗盤(3)包括襯板(31)、面板(32),所述面板(32)通過支柱(34)支撐安裝在襯板(31)上,所述襯板(31)的下端通過螺栓固接有襯腳(33)。
3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述襯板(31)的端面上均加工有通孔(5)和襯腳連接孔(312),所述通孔(5)內(nèi)安裝有支柱(34),所述襯腳連接孔(312)通過螺栓將襯腳(33)固接在襯板(31)下端,襯板(31)的中部加工有若干均勻布置的襯孔(311),襯孔(311)的上端設(shè)置有倒圓臺(tái)槽(6)。
4.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述面板(32)的兩端端面上加工有通孔(5),通孔(5)與支柱(34)連接,所述面板(32)的中部設(shè)置有酸液槽(322),酸液槽(322)內(nèi)加工有若干限位孔(321),限位孔(321)上端設(shè)置有倒圓臺(tái)槽(6)。
5.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述支架(4)包括限位柱(41)、頂板(42)、抵板(43)、中間限位柱(44)、側(cè)面支撐柱(45)、底板(47),所述頂板(42)和底板(47)分別通過鎖緊件(46)安裝在限位柱(41)兩端,所述側(cè)面支撐柱(45)和中間限位柱(44)通過鎖緊件(46)安裝在頂板(42) 和底板(47)之間且在頂板(42)或底板(47)的一側(cè),所述側(cè)面支撐柱(45)在頂板(42)的兩端,中間限位柱(44)在頂板(42)的中部。
6.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述籃架(2)包括側(cè)板(21)和拉緊螺桿(22),所述側(cè)板(21)平行設(shè)置有兩塊,兩塊側(cè)板(21)之間通過拉緊螺桿(22)連接,所述拉緊螺桿(22)設(shè)置在側(cè)板(21)的左右兩側(cè)及其下端。
7.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述提手(1)包括左提桿(11)、右提桿(12)、提板(13),所述提板(13)設(shè)置為四塊,四塊提板(13)的一端分別與兩塊側(cè)板(21)的上端兩側(cè)部鉸接,所述兩塊側(cè)板(21)上相對(duì)一側(cè)的提板(13)中下部之間通過拉緊螺桿(22)連接,其上端分別通過左提桿(11)和右提桿(12)連接。
8.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述襯腳(33)一側(cè)面上加工了導(dǎo)向槽(332),導(dǎo)向槽(332)安裝在抵板(43)的一端,所述襯腳(33)上還豎直加工有若干螺栓孔(331),通過螺栓孔(331)與螺栓將襯腳(33)固定在襯板(31)下端。
9.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述限位柱(41)兩端設(shè)置有螺紋,限位柱(41)中部等間距交叉布置有若干上限位臺(tái)(411)和下限位臺(tái)(412),每對(duì)上限位臺(tái)(411)和下限位臺(tái)(412)的相對(duì)面邊角均加工有倒角(4111),所述上限位臺(tái)(411)的下端面與面板(32)的上端面接合,所述下限位臺(tái)(412)的上端面與襯腳(33)的下端面接合。
10.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體器件的多功能腐蝕裝置,其特征在于:所述左提桿(11)和右提桿(12)兩端均設(shè)置有螺紋,左提桿(11)和右提桿(12)相鄰面上分別加工有卡槽(111)和凸臺(tái)(121),凸臺(tái)(121)可以卡裝在卡槽(111)內(nèi)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





