[實用新型]一種凹凸間隔分布微織構導軌有效
| 申請號： | 201721816159.6 | 申請日： | 2017-12-22 |
| 公開（公告）號： | CN207788258U | 公開（公告）日： | 2018-08-31 |
| 發明（設計）人： | 王浩;符永宏;朱維南;鐘行濤;邱白晶;康正陽;解玄;韓洪松 | 申請（專利權）人： | 江蘇大學 |
| 主分類號： | B23Q1/01 | 分類號： | B23Q1/01;B23K26/362;B23K26/60 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 織構 本實用新型 微凹坑 微凸起 導軌 凹凸間隔 導軌基體 微織構 表面處理技術 形貌 導軌表面 機床導軌 間隔排列 爬行現象 相鄰間隔 動軌 磨損 機床 | ||
【權利要求書】：
1.一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，包括導軌基體、微凹坑織構陣列和微凸起織構陣，所述微凹坑織構陣列與微凸起織構陣相鄰間隔排列設于實施導軌基體的導軌表面上。
2.根據權利要求1所述的一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，相鄰的所述微凹坑織構陣列或微凸起織構陣間隔排列的同種形貌織構陣列的間距小于動軌的長度。
3.根據權利要求2所述的一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，相鄰所述同種形貌織構陣列的間距相等。
4.根據權利要求1、2或3所述的一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，所述微凹坑形貌的幾何參數為：凹坑直徑d=20-500um，凹坑深度h=1-50um，形貌間距k1=100-2000um，微凹坑形貌列陣的形貌面積占有率為S1=1%-40%。
5.根據權利要求4所述的一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，所述微凹坑形貌列陣的形貌面積占有率為S1=6-16%。
6.根據權利要求1、2或3所述的一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，所述微凸起織構形貌的幾何參數為：微凸起直徑D=20-500um，微凸起高度H=1-10um，形貌間距k2=100-2000um，微凸起織構形貌列陣的形貌面積占有率為S2=8%-50%。
7.根據權利要求6所述的一種凹凸間隔分布微織構導軌，其特征在于，所述微凸起織構形貌列陣的形貌面積占有率為S2=16-28%。
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