[實用新型]全自動鍍膜機有效
| 申請號: | 201721804721.3 | 申請日: | 2017-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN207596955U | 公開(公告)日: | 2018-07-10 |
| 發明(設計)人: | 施栓林 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京維澳專利代理有限公司 11252 | 代理人: | 王立民;解立艷 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜設備 上片 下片 全自動鍍膜機 本實用新型 回傳裝置 全自動化生產 傳送帶 有效解決 自動上片 出口端 基板架 進口端 回傳 伸入 卸片 貫穿 改造 | ||
本實用新型公開了一種全自動鍍膜機,包括上片設備(7)、回傳裝置(17)和下片設備(18),所述上片設備(7)與鍍膜設備(3)的進口端連接,所述下片設備(18)與所述鍍膜設備(3)的出口端連接,傳送帶(4)貫穿于所述鍍膜設備(3),且其兩端分別伸入所述上片設備(7)和所述下片設備(18)內,所述回傳裝置(17)設于所述鍍膜設備(3)的下方,其兩端分別位于所述上片設備(7)和所述下片設備(18)內。本實用新型能夠實現自動上片、自動卸片和基板架自動回傳的功能,實現全自動化生產,且可以有效利用現有空間,有效解決已投產鍍膜設備的改造問題。
技術領域
本實用新型涉及一種鍍膜機,具體涉及一種全自動鍍膜機。
背景技術
在光伏行業里所用生產型磁控濺射沉積設備主要分為臥式磁控濺射鍍膜機和立式磁控濺射鍍膜機兩種,主要以臥式為首,其主要優點是整體膜層均勻性好,缺點是占地空間大;針對于陶瓷靶材,在制程過程中靶材掉渣現象不可避免,玻璃膜層邊緣容易出現打火現象,嚴重影響成膜質量,為避免打火現象的發生,需要附加基板架對玻璃邊緣進行遮擋來解決,而添加基板架的同時需要加設回傳系統以實現自動化控制,但因廠區空間有限,無法外設基板架回傳系統和能否實現自動化成了難題。
為解決上述問題,現有的處理方法是,在臥式磁控濺射鍍膜機的進口端和出口端設置緩存室,其主要的回傳系統在臥式磁控濺射鍍膜機的側面,由于這種設計占地面積非常大,因此需要提前預留空間,對于已投產設備無法實現。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種全自動鍍膜機,以解決現有技術中的技術問題,它能夠實現自動上片、自動卸片和基板架自動回傳的功能,實現全自動化生產,且可以有效利用現有空間,有效解決已投產鍍膜設備的改造問題。
本實用新型提供了一種全自動鍍膜機,包括上片設備、回傳裝置和下片設備,所述上片設備與鍍膜設備的進口端連接,所述下片設備與所述鍍膜設備的出口端連接,傳送帶貫穿于所述鍍膜設備,且其兩端分別伸入所述上片設備和所述下片設備內,所述回傳裝置設于所述鍍膜設備的下方,其兩端分別位于所述上片設備和所述下片設備內。
一種可選的實施方式中,所述回傳裝置包括基板架傳送裝置和基板架升降裝置,所述基板架傳送裝置設置在所述鍍膜設備的正下方,所述基板架傳送裝置的兩端分別設有一個所述基板架升降裝置,當所述基板架升降裝置升起后與所述傳送帶連接。
一種可選的實施方式中,所述基板架傳送裝置為皮帶機。
一種可選的實施方式中,所述基板架傳送裝置包括第一回傳主體和支撐腿,所述支撐腿固定設置在所述第一回傳主體的底部;所述基板架升降裝置包括第二回傳主體和升降裝置,所述升降裝置設置在所述第二回傳主體的底部。
一種可選的實施方式中,所述第一回傳主體與所述第二回傳主體的結構相同,均包括架體、傳送輪、轉軸和驅動電機,所述架體的兩側設有安裝槽,兩個所述安裝槽內均設有所述傳送輪,其中一個所述安裝槽內的所述傳送輪通過所述轉軸與另一個所述安裝槽內的所述傳送輪連接,任意相鄰兩根所述轉軸通過皮帶連接,所述驅動電機固定安裝在所述架體上,其輸出軸與其中一根所述轉軸連接。
一種可選的實施方式中,所述傳送輪為槽輪,基板架的底部設有兩根平形布置的導桿,兩根所述導桿分別與兩個所述安裝槽內的所述槽輪配合。
一種可選的實施方式中,所述升降裝置為液壓缸或氣缸或電動推拉桿。
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