[實(shí)用新型]一種晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721796767.5
• 申請(qǐng)日: 2017-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN207542214U
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃雷
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山成功環(huán)?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 蘇州華博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232
• 代理人: 黃珩

本實(shí)用新型涉及了一種晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置，其包括：清洗室，用于對(duì)晶圓進(jìn)行清洗；干燥室，用于對(duì)晶圓進(jìn)行干燥，且設(shè)置在清洗室的下游；晶圓連續(xù)傳送機(jī)構(gòu)，其穿越清洗室及干燥室且做循環(huán)運(yùn)動(dòng)。這樣一來(lái)，該晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置實(shí)現(xiàn)了晶圓清洗、干燥一體化，不但避免了由于晶圓移動(dòng)位置造成的清洗、干燥工序中斷，且避免了工序間晶圓搬運(yùn)、移位，從而提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及晶圓加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置。

背景技術(shù)

在集成電路制造領(lǐng)域，在某些工藝步驟之后，通常會(huì)在晶圓表面留下污染物，這些污染物對(duì)產(chǎn)品后續(xù)工藝的影響非常大。因此，在半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中，最頻繁的工藝步驟就是晶圓清洗。晶圓清洗完成之后，重新放入到干燥機(jī)進(jìn)行干燥，從而造成了清洗、干燥工序中斷，間隔時(shí)間長(zhǎng)，生產(chǎn)效率低的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，功能可靠，其使得晶圓進(jìn)行清洗和干燥過(guò)程連續(xù)的晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型涉及了一種晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置，其包括：

清洗室，用于對(duì)晶圓進(jìn)行清洗；

干燥室，用于對(duì)晶圓進(jìn)行干燥，且設(shè)置在清洗室的下游；

晶圓連續(xù)傳送機(jī)構(gòu)，其穿越清洗室及干燥室且做循環(huán)運(yùn)動(dòng)。

本晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置能實(shí)現(xiàn)晶圓清洗、干燥一體化，不但避免了由于晶圓移動(dòng)位置造成的清洗、干燥工序中斷，且避免了工序間晶圓搬運(yùn)、移位，從而提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，清洗室數(shù)量設(shè)置為多個(gè)，其中包括按順序依次布置的至少一個(gè)有機(jī)物清洗室，至少一個(gè)無(wú)機(jī)物清洗室，至少一個(gè)去離子水清洗室。

晶圓表面存在有多種不同污染物，如有機(jī)物、無(wú)機(jī)物等，僅僅通過(guò)一種清洗液的清洗裝置難以做到全面清洗，為了避免上述情況發(fā)生，本晶圓連續(xù)清洗、干燥裝置中設(shè)置多個(gè)噴射不同清洗液的清洗室，依序排列。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，在干燥室的頂部和底部均設(shè)置有噴氣單元。氣體通過(guò)噴氣單元噴向晶圓。

通過(guò)在干燥室的頂部和底部設(shè)置噴氣單元的方式，使得晶圓的正反面均得到干燥，減少了晶圓翻身工序。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，噴氣單元包括加熱裝置，用于對(duì)所述氣體進(jìn)行加熱。

通過(guò)加熱裝置對(duì)氣體進(jìn)行加熱，使得其具有更高的分子動(dòng)能，從而提高晶圓的干燥速度。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，氣體溫度設(shè)置在50～60℃之間。

氣體溫度設(shè)置在50～60℃之間，既提高了晶圓干燥速度，又不會(huì)使得晶圓熱變形量過(guò)大，影響產(chǎn)品質(zhì)量。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，氣體為惰性氣體。

氣體采用惰性氣體，可有效地防止晶圓出現(xiàn)氧化，影響產(chǎn)品質(zhì)量的現(xiàn)象發(fā)生。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，惰性氣體為氮?dú)狻?/p>

氮?dú)獾幕瘜W(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，使得晶圓在其氛圍不易發(fā)生氧化現(xiàn)象，且氮?dú)鈨r(jià)格低廉，從而降低了晶圓干燥的生產(chǎn)成本。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，干燥室的側(cè)壁上設(shè)置有溫度傳感器。

溫度傳感器可實(shí)時(shí)地對(duì)干燥室腔體內(nèi)溫度進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)溫度超過(guò)警戒值時(shí)，可及時(shí)進(jìn)行人工干涉，防止腔內(nèi)溫度過(guò)高，晶圓出現(xiàn)過(guò)燒現(xiàn)象。

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述溫度傳感器通過(guò)控制器與所述加熱裝置相連。