[實用新型]一種晶圓連續(xù)清洗裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721796766.0 | 申請日: | 2017-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN207651456U | 公開(公告)日: | 2018-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃雷 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山成功環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/677;B08B3/02;B08B3/10;B08B3/14;B08B1/02 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232 | 代理人: | 黃珩 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清洗噴頭 清洗室 晶圓 連續(xù)清洗裝置 連續(xù)傳送 清洗裝置 種晶 清洗 本實用新型 傳統(tǒng)單片 供液裝置 清洗模式 清洗效率 循環(huán)運動 清洗液 穿越 節(jié)約 | ||
1.一種晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,包括:
設(shè)有清洗裝置的清洗室;
所述清洗裝置包括清洗噴頭,所述清洗噴頭設(shè)置在清洗室的頂部和底部,所述清洗噴頭與供液裝置通過管路相連;
晶圓連續(xù)傳送機構(gòu),其穿越所述清洗室并循環(huán)運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述晶圓連續(xù)傳送機構(gòu)包括機架,以及設(shè)置在所述機架上同步轉(zhuǎn)動的傳送托輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述各傳送托輥的軸端部設(shè)置有齒輪,各齒輪通過鏈條驅(qū)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述清洗裝置還包括有擦拭裝置,所述擦拭裝置包括上擦拭托輥和下擦拭托輥,所述下擦拭托輥稍低于所述傳送托輥,上擦拭托輥對應(yīng)的布置在所述下擦拭托輥的正上方,兩者形成的間隙稍小于晶圓厚度,所述擦拭托輥上包裹有彈性透水性材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述彈性透水性材料為海綿。
6.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述擦拭裝置包括有多組所述上擦拭托輥和所述下擦拭托輥。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述供液裝置的管路上設(shè)置有加熱裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述晶圓連續(xù)清洗裝置還包括廢液收集裝置及廢液處理裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8中所述的晶圓連續(xù)清洗裝置,其特征在于,所述供液裝置與所述廢液處理裝置相連。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





