[實用新型]一種質量流量控制器

有效

• 申請號: 201721794204.2
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN207764658U
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 趙青松;南建輝
• 申請（專利權）人: 北京創昱科技有限公司
• 主分類號: G05D7/06
• 分類號: G05D7/06
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

本實用新型涉及半導體技術領域，尤其涉及一種質量流量控制器，包括進氣管路、出氣管路和控制組件，進氣管路和/或出氣管路為多條，進氣管路一端為進氣口，另一端與各出氣管路連通，各進氣管路上均設有電位監測元件，控制組件與電位監測元件連接，且控制組件控制進氣管路與出氣管路的氣體流量。為實現多種氣體先均勻混氣后均勻供氣的目的，可采用本實用新型設置多條進氣管路和多條出氣管路，控制組件控制每條進氣管路及出氣管路的氣體流量，從而達到混氣均勻和供氣均勻的要求。由此本實用新型在多路進氣管路和多路出氣管路的搭配下，可以節約可觀配氣管路的設計費用，設備購置費用和減小配氣箱體的空間，可以代替單獨的多個普通質量流量控制器使用。

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，尤其涉及一種質量流量控制器。

背景技術

在半導體行業快速發展的今天，生產芯片用的襯底材料越來越向大尺寸化發展，生產芯片的反應腔體的內部容積也越來越大，需要進入反應腔體的氣體流量也是越來大，如何保證進入反應腔室的反應氣流流場均勻、氣體濃度均勻和氣體壓力均勻已經成為半導體設備生氣企業越來越需要關注的重要課題。

目前大多數質量流量控制器僅有一個入口和一個出口，可以控制一種氣體精確進入反應腔室物質的量或質量，當反應腔室的容積很大時，需要在反應腔室入口處設置一個非常大的勻氣裝置，但一個氣體入口還是很難保證氣體能同時均勻到達反應襯底的表面或很難保證氣體能同時均勻地清除掉殘留在反應襯底的表面其他反應氣體。目前大腔體的進氣的解決方案有兩種。

方案A：是在同一個質量流量控制器后端管路上直接增加多路歧管，通過增加反應腔室的進氣點，來達到勻氣的目的。但每根管路的流導、管路的長短及進氣位置難以完全相同，這就很難保證進氣的均勻性，特別是若發現進氣不均勻的現象后很難查找原因和進行修正。

方案B：同一種氣體先分為多路歧管，在每路進氣歧管上設置一個質量流量控制器，然后再接到反應腔體，這樣可以彌補方案A的不足，實現可以分別調節各路歧管上的質量流量控制器來達到勻氣目的。但此方案需要購置多臺質量流量控制器，不但增加設備的成本，還要設計復雜的管路系統和控制系統。

此外，當一種氣體需要和另外一種或多種氣體按照比例均勻混合后再進入反應腔時就需要設置多個質量流量控制器和結構復雜混氣裝置，為了保證混氣均勻和氣流穩定，還要設計復雜的背壓和過壓排氣管路。為了達到勻氣目的，還要浪費掉不少昂貴的高純特氣。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是解決現有的質量流量控制器難以對大容積反應腔體進行均勻供氣以及難以實現多種氣體均勻混氣和均勻供氣的問題。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種質量流量控制器，包括進氣管路、出氣管路和控制組件，所述進氣管路和/或所述出氣管路為多條，所述進氣管路一端為進氣口，另一端與各所述出氣管路連通，各所述進氣管路上均設有電位監測元件，所述控制組件與所述電位監測元件連接，且所述控制組件控制所述進氣管路和所述出氣管路的氣體流量。

其中，當所述出氣管路為多條時，各所述出氣管路上均設有第一控制閥，所述第一控制閥與所述控制組件連接。

其中，當所述進氣管路為多條時，各所述進氣管路上均設有第二控制閥，所述第二控制閥與所述控制組件連接。

其中，所述電位監測元件包括氣流旁路和熱感應電位差元件，所述氣流旁路的兩端均與所述進氣管路連通，所述熱感應電位差元件設置于所述氣流旁路上，且與所述控制組件連接。