[實用新型]一種掩模條、掩模板及蒸鍍裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721775254.6 | 申請日: | 2017-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN207925524U | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃俊杰;呂守華 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L51/00 | 分類號: | H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩模板 掩模條 焊孔 框架上表面 蒸鍍裝置 蒸鍍 本實用新型 產(chǎn)品良率 焊接 連通 | ||
本實用新型涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種掩模條、掩模板及蒸鍍裝置,以提高蒸鍍品質(zhì),從而提高產(chǎn)品良率。掩模條包括用于與掩模板的框架上表面焊接的焊孔,以及位于焊孔遠離框架上表面一側(cè)并與焊孔連通的第一凹槽。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種掩模條、掩模板及蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機發(fā)光二級管,簡稱OLED)的制作通常采用有機蒸鍍鍍膜技術(shù),其使用高精度金屬掩模板(Fine Metal Mask,簡稱FMM)作為掩模,有機蒸鍍材料被加熱后以蒸汽分子狀態(tài)通過掩模板的開口,從而蒸鍍到背板上。
如圖1所示,現(xiàn)有技術(shù)中,高精度金屬掩模板通常包括金屬框架06如因瓦合金框架(Invar Frame)以及焊接在金屬框架06上的金屬掩模條03。在蒸鍍工藝中,高精度金屬掩模板置于蒸鍍腔室內(nèi),并與背板02的下表面貼合,冷卻板01與背板02的上表面壓合,從而對蒸鍍到背板上02的有機蒸鍍材料04進行冷卻。
繼續(xù)參照圖1,現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷在于:金屬掩模03與金屬框架06的焊點05高出高精度金屬掩模板的上表面,從而使得與高精度金屬掩模板貼合的背板02在焊點05處發(fā)生彎折,從而使得蒸鍍到背板02上的像素圖形在焊點05處產(chǎn)生混色不良,影響到產(chǎn)品良率。另外,由于背板02在焊點05處發(fā)生彎折,當冷卻板01與背板02的上表面壓合時,背板02在焊點05處極易因應(yīng)力而破碎,影響正常生產(chǎn),降低產(chǎn)能。
實用新型內(nèi)容
本實用新型實施例的目的是提供一種掩模條、掩模板及蒸鍍裝置,以提高蒸鍍品質(zhì),從而提高產(chǎn)品良率。
本實用新型實施例提供了一種掩模條,包括用于與掩模板的框架上表面焊接的焊孔,以及位于所述焊孔遠離所述框架上表面一側(cè)并與所述焊孔連通的第一凹槽。
采用本技術(shù)方案的掩模條制作掩模板時,掩模條與框架上表面通過焊料進行焊接,超出焊孔容量的焊料可以填充至第一凹槽內(nèi),從而使焊點的高度不會高出掩模條的上表面。采用本方案的掩模板對背板進行蒸鍍時,掩模板置于蒸鍍腔室內(nèi),背板的待蒸鍍表面可以與掩模板遠離框架的一側(cè)表面緊密貼合,從而可以提高像素蒸鍍質(zhì)量,進而提高產(chǎn)品良率。
可選的,所述用于與掩模板的框架上表面焊接的焊孔至少為兩個。焊孔的具體數(shù)量不限,可以為一個、兩個或多個,當焊孔為多個時可以使掩模條與框架的焊接更加牢靠。
優(yōu)選的,所述掩模條靠近所述框架上表面的一側(cè)具有凸起,所述焊孔貫穿所述凸起。這樣在固定掩模板的框架上對應(yīng)凸起也設(shè)置凹槽,從而使掩模條與框架的組裝更加可靠。
優(yōu)選的,所述第一凹槽為垂直于所述掩模條長度方向延伸的條形凹槽,和/或,所述凸起為垂直于所述掩模條長度方向延伸的條形凸起。將第一凹槽設(shè)置成條形凹槽,凸起設(shè)置成條形凸起可以使其加工工藝得到簡化。
優(yōu)選的,所述第一凹槽為垂直于掩模條長度方向延伸的條形凹槽,所述凸起為垂直于掩模條長度方向延伸的條形凸起,所述凸起沿所述掩模條長度方向的尺寸L1等于所述第一凹槽沿所述掩模條長度方向的尺寸L3。這樣的尺寸設(shè)置可以簡化凸起和第一凹槽在刻蝕形成時的工藝管控難度。
可選的,所述第一凹槽的深度H1滿足:5μm<H1<10μm。
本實用新型實施例還提供了一種掩模板,包括框架和焊接固定于所述框架上表面的至少一個如前任一技術(shù)方案的掩模條。
在制作本方案的掩模板時,掩模條與框架上表面通過焊料進行焊接,超出焊孔容量的焊料可以填充至第一凹槽內(nèi),從而使焊點的高度不會高出掩模條的上表面。采用本方案的掩模板對背板進行蒸鍍時,掩模板置于蒸鍍腔室內(nèi),背板的待蒸鍍表面可以與掩模板遠離框架的一側(cè)表面緊密貼合,從而可以提高像素蒸鍍質(zhì)量,進而提高產(chǎn)品良率。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司,未經(jīng)京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201721775254.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:存儲器件及電子設(shè)備
- 下一篇:一種動力電池模組護罩
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





