[實用新型]一種掩模條、掩模板及蒸鍍裝置有效
| 申請號： | 201721775254.6 | 申請日： | 2017-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN207925524U | 公開（公告）日： | 2018-09-28 |
| 發明（設計）人： | 黃俊杰;呂守華 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號： | H01L51/00 | 分類號： | H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭潤湘 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩模板 掩模條 焊孔 框架上表面 蒸鍍裝置 蒸鍍 本實用新型 產品良率 焊接 連通 | ||
1.一種掩模條，其特征在于，包括用于與掩模板的框架上表面焊接的焊孔，以及位于所述焊孔遠離所述框架上表面一側并與所述焊孔連通的第一凹槽。
2.如權利要求1所述的掩模條，其特征在于，所述用于與掩模板的框架上表面焊接的焊孔至少為兩個。
3.如權利要求1所述的掩模條，其特征在于，所述掩模條靠近所述框架上表面的一側具有凸起，所述焊孔貫穿所述凸起。
4.如權利要求3所述的掩模條，其特征在于，所述第一凹槽為垂直于所述掩模條長度方向延伸的條形凹槽，和/或，所述凸起為垂直于所述掩模條長度方向延伸的條形凸起。
5.如權利要求3所述的掩模條，其特征在于，所述凸起沿所述掩模條長度方向的尺寸L1，與所述第一凹槽沿所述掩模條長度方向的尺寸L3之間滿足：L1＝L3。
6.如權利要求1～5任一項所述的掩模條，其特征在于，所述第一凹槽的深度H1滿足：5μm＜H1＜10μm。
7.一種掩模板，其特征在于，包括框架和焊接固定于所述框架上表面的至少一個如權利要求1～6任一項所述的掩模條。
8.如權利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述框架的內側面與所述框架的上表面的夾角小于90度。
9.如權利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述掩模條靠近所述框架上表面的一側具有凸起，所述焊孔貫穿所述凸起，所述框架上表面具有與所述凸起形狀相配合的第二凹槽。
10.如權利要求9所述的掩模板，其特征在于，所述凸起的高度H2小于或等于所述第二凹槽的深度H3。
11.如權利要求9所述的掩模板，其特征在于，所述凸起為垂直于所述掩模條長度方向延伸的條形凸起，所述第二凹槽為垂直于所述掩模條長度方向延伸的條形凹槽；所述凸起沿所述掩模條長度方向的尺寸L1，與所述第二凹槽沿所述掩模條長度方向的尺寸L2之間滿足：L1＜L2。
12.如權利要求11所述的掩模板，其特征在于，所述凸起沿所述掩模條長度方向的尺寸L1滿足：5μm＜L1＜10μm。
13.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括如權利要求7～12任一項所述的掩模板。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件；專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的；具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射；專門適用于將這些輻射能轉換為電能，或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的，如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
