[實用新型]一種帶防液滴噴濺格柵的熱蒸發裝置

有效

• 申請號: 201721736330.2
• 申請日: 2017-12-13
• 公開（公告）號: CN208136329U
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 張擷秋;劉壯;楊世航;鐘國華;黃俏俏;崔駿;李霖
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24
• 代理公司: 北京市誠輝律師事務所 11430
• 代理人: 范盈

一種帶防液滴噴濺格柵的熱蒸發裝置，包括：蒸發材料；坩堝，所述坩堝容納待加熱的所述蒸發材料；噴管，所述噴管與坩堝的頂端端口相通；格柵，所述格柵放置在坩堝內壁，且位于蒸發材料上方，所述格柵具有阻擋噴濺液滴直線運動至噴管的傾斜擋板。所述格柵還包括支撐框架，所述支撐框架的外壁與所述坩堝內壁緊密貼合，且形狀相同。在熱蒸發鍍膜工藝中，格柵可順利通過蒸氣，且阻擋大部分噴濺液滴，有效減少噴濺液滴到達鍍膜表面，提高鍍膜材料的厚度均勻性和化學組分一致性，提高鍍膜工藝的良品率。

技術領域

本實用新型涉及真空熱蒸發鍍膜領域，具體涉及一種帶防液滴噴濺格柵的熱蒸發裝置。

背景技術

蒸發鍍膜是真空物理氣相沉積鍍膜的技術之一。蒸發鍍膜裝備通常分為真空腔體、真空獲得系統、熱蒸發系統、電控系統構成。熱蒸發系統由蒸發容器(蒸發坩堝、蒸發舟等)，電阻絲加熱器或其他加熱裝置，熱屏蔽系統，加熱溫控系統構成。工藝過程為：蒸發原料置于坩堝中，在真空環境中利用加熱使鍍膜原料發生固液氣相變過程，蒸發原料被加熱至熔化后產生蒸發氣體或以升華模式由固態直接產生蒸發氣體，蒸發氣體在真空腔體中沉積在襯底表面形成薄膜材料。通過蒸發工藝可以形成單質薄膜，也可以通過化學反應形成化合物薄膜。在生產實踐中，根據熱蒸發源的結構分為點蒸發源和線蒸發源等。

線性熱蒸發源常用于連續生產型鍍膜設備，和點狀熱蒸發源相比，具有鍍膜面積大、均勻性高、材料利用率高的優點，但線性蒸發源結構復雜，通常包含坩堝、坩堝加熱器、噴管、噴管加熱器、熱屏蔽結構、噴嘴等等。其工作原理為蒸發源材料在坩堝中被加熱，所產生的蒸發氣體經過噴管導流后從噴嘴處噴出，其中噴管和噴嘴也需要加熱，避免蒸發氣體再次凝結。在實際過程中，材料內部產生的蒸發氣體在逸出材料表面的過程中，會攜帶出一定的液滴，大的液滴因為重力會墜落回蒸發材料表面或粘附于坩堝內壁，但部分小液滴會伴隨蒸發氣體經過噴管后從噴嘴逸出，并沉積于襯底，小液滴會伴隨蒸發氣體經過噴管后從噴嘴逸出，并沉積于襯底的現象被稱為液滴噴濺，導致薄膜材料局部的厚度和化學組分異常，影響薄膜材料的厚度均勻性和化學組分一致性，導致鍍膜廢品的產生。

此實用新型目的為解決上述液滴噴濺問題，采用熱蒸發源的防液滴噴濺格柵，用于阻擋坩堝中噴濺液滴到達噴管，并保持蒸發氣體的正常通過。

發明內容

本實用新型的一種帶防液滴噴濺格柵的熱蒸發裝置，包括：

蒸發材料

坩堝，所述坩堝容納待加熱的所述蒸發材料；

噴管，所述噴管與坩堝的頂端端口相通；

格柵，所述格柵放置在坩堝內壁，且位于蒸發材料上方，所述格柵具有阻擋噴濺液滴直線運動至噴管的傾斜擋板。

優選地，所述格柵還包括：支撐框架，所述支撐框架的外壁與所述坩堝內壁緊密貼合，且形狀相同。

優選地，所述傾斜擋板平行設置且為多個，且每個所述的傾斜擋板的兩端支撐在所述支撐框架上。

優選地，所述支撐框架外壁的水平橫截面為橢圓形或四邊形。

優選地，所述支撐框架外壁的水平橫截面為圓形。

優選地，所述格柵采用燒結、機械或增材制造加工。

優選地，所述格柵材料為銅、金、銀、鉭、鉬、鎢、石墨、石英、氧化鋁、碳纖維、氮化硼或碳化硅。

優選地，所述傾斜擋板具有多層。

優選地，所述同一層的傾斜擋板間距相同。

優選地，所述格柵具有多個。

優選地，所述格柵具有兩個，且上下相鄰對稱放置。