[實(shí)用新型]一種LPCVD真空加熱腔室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721709152.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207596957U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁建輝 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京鉑陽(yáng)頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/46 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京維澳專(zhuān)利代理有限公司 11252 | 代理人: | 周放;逄京喜 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加熱腔室 本實(shí)用新型 真空加熱 加熱腔 腔室 玻璃基板 熱量屏蔽 熱量損失 均熱板 室內(nèi) 腔壁 加熱成本 加熱裝置 內(nèi)部設(shè)置 腔室內(nèi)部 熱量反射 熱量集中 受熱均勻 腔室壁 保證 玻璃 | ||
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種LPCVD真空加熱腔室,所述加熱腔室內(nèi)自上而下順次設(shè)有加熱裝置、均熱板和玻璃基板,所述加熱腔室的腔壁上設(shè)有熱量屏蔽裝置,本實(shí)用新型通過(guò)在加熱腔室的內(nèi)部設(shè)置均熱板,可以保證玻玻璃基板上的玻璃受熱均勻,避免熱量集中,同時(shí)在加熱腔室的腔壁上設(shè)置熱量屏蔽裝置,可以將散逸到腔室壁上的熱量反射回腔室內(nèi)部,降低加熱腔室內(nèi)的熱量損失,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的LPCVD真空加熱腔室可以有效降低熱量損失,保證加熱腔室內(nèi)處于合適的溫度,降低加熱腔室的加熱成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及低壓化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種LPCVD真空加熱腔室。
背景技術(shù)
LPCVD是用于沉積CIGS膜層的設(shè)備,通過(guò)沉積CIGS膜層,可以有效提高電池的轉(zhuǎn)化效率。LPCVD主要包括上片臺(tái)、真空加熱腔室、工藝腔室、冷卻腔室和卸片臺(tái)等組件。
LPCVD工藝流程為:玻璃經(jīng)上片臺(tái)裝載在基板上,然后玻璃借助玻璃基板進(jìn)入真空加熱腔室,接著真空加熱腔室開(kāi)始抽真空并對(duì)玻璃進(jìn)行加熱,待真空加熱腔室加熱到設(shè)定溫度后,玻璃會(huì)被自動(dòng)傳輸?shù)焦に嚽皇遥M(jìn)行工藝膜層沉積,工藝完成后在冷卻腔室內(nèi)冷卻,然后從卸片臺(tái)傳出。
在上述加熱過(guò)程中,既要將玻璃基板加熱到預(yù)定溫度,又要避免真空加熱腔室的腔室壁過(guò)熱,故在腔室壁上設(shè)有冷卻水槽,通過(guò)冷卻循環(huán)水來(lái)降低腔室壁的溫度,然而冷卻循環(huán)水在帶走輻射到腔室壁上的熱量時(shí),常常會(huì)產(chǎn)生過(guò)多的能量消耗,因此有必要對(duì)現(xiàn)有的LPCVD真空加熱腔室改進(jìn),以克服上述缺陷。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種LPCVD真空加熱腔室,以解決現(xiàn)有技術(shù)中的真空加熱腔室的冷卻水槽帶走過(guò)多熱量的技術(shù)問(wèn)題,它能夠?qū)⑸⒁莸角皇冶谏系臒崃糠瓷浠厍皇覂?nèi)部,降低內(nèi)部的熱量損失。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了如下的技術(shù)方案:
一種LPCVD真空加熱腔室,所述加熱腔室內(nèi)自上而下順次設(shè)有加熱裝置、均熱板和玻璃基板,所述加熱腔室的腔壁上設(shè)有熱量屏蔽裝置。
優(yōu)選地,所述熱量屏蔽裝置包括漫反射板和鏡面反射板,所述鏡面反射板設(shè)于所述漫反射板與所述加熱腔室的腔壁之間。
優(yōu)選地,所述漫反射板為彎折板,所述鏡面反射板為平板。
優(yōu)選地,所述漫反射板為波紋板。
優(yōu)選地,所述波紋板包括順次連接的弧形凸板,所述弧形凸板朝向所述玻璃基板的方向凸起。
優(yōu)選地,所述熱量屏蔽裝置設(shè)置在所述加熱腔室的底壁和側(cè)壁上。
優(yōu)選地,所述漫反射板與所述鏡面反射板之間設(shè)有隔熱材料。
優(yōu)選地,所述加熱裝置為加熱燈管,所述加熱燈管均勻設(shè)置在所述均熱板的上方。
優(yōu)選地,所述加熱腔室內(nèi)還設(shè)有溫度傳感器,所述溫度傳感器與所述玻璃基板連接。
優(yōu)選地,所述加熱腔室的側(cè)壁上設(shè)有導(dǎo)軌,所述玻璃基板的邊緣設(shè)有與所述導(dǎo)軌匹配的滑塊,所述滑塊與所述導(dǎo)軌滑動(dòng)連接。
本實(shí)用新型的有益效果在于:
本實(shí)用新型提供了一種LPCVD真空加熱腔室,所述加熱腔室內(nèi)自上而下順次設(shè)有加熱裝置、均熱板和玻璃基板,所述加熱腔室的腔壁上設(shè)有熱量屏蔽裝置;本實(shí)用新型通過(guò)在加熱腔室的內(nèi)部設(shè)置均熱板,可以保證玻玻璃基板上的玻璃受熱均勻,避免熱量集中,同時(shí)在加熱腔室的腔壁上設(shè)置熱量屏蔽裝置,可以將散逸到腔室壁上的熱量反射回腔室內(nèi)部,降低加熱腔室內(nèi)的熱量損失,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的LPCVD真空加熱腔室可以有效降低熱量損失,保證加熱腔室內(nèi)處于合適的溫度,降低加熱腔室的加熱成本。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的LPCVD真空加熱腔室的結(jié)構(gòu)示意圖;
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C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





