[實用新型]一種LPCVD真空加熱腔室有效
| 申請號： | 201721709152.4 | 申請日： | 2017-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN207596957U | 公開（公告）日： | 2018-07-10 |
| 發明（設計）人： | 袁建輝 | 申請（專利權）人： | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/46 | 分類號： | C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京維澳專利代理有限公司 11252 | 代理人： | 周放;逄京喜 |
| 地址： | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 加熱腔室 本實用新型 真空加熱 加熱腔 腔室 玻璃基板 熱量屏蔽 熱量損失 均熱板 室內 腔壁 加熱成本 加熱裝置 內部設置 腔室內部 熱量反射 熱量集中 受熱均勻 腔室壁 保證 玻璃 | ||
1.一種LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述加熱腔室(1)內自上而下順次設有加熱裝置(2)、均熱板(3)和玻璃基板(4)，所述加熱腔室(1)的腔壁上設有熱量屏蔽裝置(5)。
2.根據權利要求1所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述熱量屏蔽裝置(5)包括漫反射板(6)和鏡面反射板(7)，所述鏡面反射板(7)設于所述漫反射板(6)與所述加熱腔室(1)的腔壁之間。
3.根據權利要求2所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述漫反射板(6)為彎折板，所述鏡面反射板(7)為平板。
4.根據權利要求2所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述漫反射板(6)為波紋板。
5.根據權利要求4所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述波紋板包括順次連接的弧形凸板(8)，所述弧形凸板(8)朝向所述玻璃基板(4)的方向凸起。
6.根據權利要求1所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述熱量屏蔽裝置(5)設置在所述加熱腔室(1)的底壁和側壁上。
7.根據權利要求2所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述漫反射板(6)與所述鏡面反射板(7)之間設有隔熱材料。
8.根據權利要求1所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述加熱裝置(2)為加熱燈管，所述加熱燈管均勻設置在所述均熱板(3)的上方。
9.根據權利要求1所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述加熱腔室(1)內還設有溫度傳感器，所述溫度傳感器與所述玻璃基板(4)連接。
10.根據權利要求1所述的LPCVD真空加熱腔室，其特征在于，所述加熱腔室(1)的側壁上設有導軌，所述玻璃基板(4)的邊緣設有與所述導軌匹配的滑塊，所述滑塊與所述導軌滑動連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
