[實用新型]晶圓片去膠機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721687117.7 | 申請日: | 2017-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN207503934U | 公開(公告)日: | 2018-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李繼忠;李述周;朱春 | 申請(專利權(quán))人: | 常州市科沛達(dá)超聲工程設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 常州市科誼專利代理事務(wù)所 32225 | 代理人: | 孫彬 |
| 地址: | 213025 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清洗槽 清洗 水槽 本實用新型 超聲漂洗槽 機械手裝置 去膠機 酸槽 花籃 清潔度 工件表面 加工工序 清洗效果 人手接觸 生產(chǎn)效率 使用壽命 依次設(shè)置 出料口 進料口 晶圓片 漂洗槽 透視窗 無損傷 藥劑槽 超聲 放入 圓片 種晶 側(cè)面 | ||
1.一種晶圓片去膠機,包括本體,所述本體側(cè)面設(shè)有工件花籃進料口和出料口,所述本體正面設(shè)有透視窗,所述本體內(nèi)設(shè)有清洗槽和機械手裝置,所述機械手裝置自動將工件花籃放入清洗槽內(nèi)清洗,然后傳送到下個清洗槽進行清洗,所述清洗槽包括依次設(shè)置的第一水槽、超聲藥劑槽、第一超聲漂洗槽、第一酸槽、第二超聲漂洗槽、第二酸槽、快排漂洗槽和第二水槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述本體內(nèi)還設(shè)有拋動裝置,所述第一酸槽和第二酸槽分別連接拋動裝置,所述拋動裝置使得工件花籃在所述第一酸槽和第二酸槽內(nèi)進行升降運動。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述拋動裝置包括動力組件、支撐架和拋動架,所述拋動架設(shè)在兩支撐架之間,所述支撐架上設(shè)有可供拋動架垂直升降的滑道,所述動力組件驅(qū)動拋動架沿滑道垂直升降。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述拋動架前端設(shè)有放置工件花籃的固定架,所述固定架上有卡住工件花籃的吊鉤。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述機械手裝置包括橫桿、平移驅(qū)動裝置和吊臂,所述平移驅(qū)動裝置驅(qū)動吊臂在所述橫桿上左右移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述吊臂包括滑桿和豎桿,所述滑桿與橫桿可滑動連接,所述豎桿上設(shè)有升降裝置和驅(qū)動升降裝置垂直升降的第二動力組件,所述升降裝置的端部設(shè)有吊鉤。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述快排漂洗槽連接在線加熱器,所述在線加熱器內(nèi)設(shè)有至少兩組加熱管。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述第一酸槽和第二酸槽分別連接有冷排管,所述第一酸槽和第二酸槽上部設(shè)有排風(fēng)管道,所述排風(fēng)管道連接所述本體上的排風(fēng)口。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述第一酸槽和第二酸槽內(nèi)設(shè)有加熱管,所述加熱管通過螺栓固定在所述第一酸槽和第二酸槽的內(nèi)壁上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶圓片去膠機,其特征在于:所述第一酸槽內(nèi)設(shè)有煙霧檢測器和滅火裝置,當(dāng)煙霧檢測器檢測到火花時及時啟動滅火裝置。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





