[實(shí)用新型]一種濕法刻蝕的上料裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721670679.0
• 申請(qǐng)日: 2017-12-05
• 公開（公告）號(hào): CN207542206U
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林建偉;何大娟;劉志鋒;季根華;劉勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泰州中來光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/677;H01L31/18
• 代理公司: 北京金之橋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11137
• 代理人: 林建軍

1.一種濕法刻蝕的上料裝置，包括上料主機(jī)臺(tái)、反應(yīng)槽、滾輪、儲(chǔ)液槽，其特征在于：所述反應(yīng)槽設(shè)置在所述上料主機(jī)臺(tái)上，所述滾輪設(shè)置在所述反應(yīng)槽的頂部，所述反應(yīng)槽里放置有腐蝕液，所述反應(yīng)槽中的腐蝕液的液面高于所述滾輪的底部，所述儲(chǔ)液槽中的化學(xué)品和水通過循環(huán)泵輸送至所述反應(yīng)槽，所述儲(chǔ)液槽上設(shè)置有化學(xué)品配液添加系統(tǒng)和水配液添加系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述儲(chǔ)液槽中還設(shè)置有化學(xué)品自動(dòng)補(bǔ)給系統(tǒng)和水自動(dòng)補(bǔ)給系統(tǒng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述滾輪為螺紋帶液滾輪或海綿帶液滾輪，所述滾輪帶有定向功能。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：硅片通過所述滾輪之間的輥道水平輸送，所述硅片的前部剛進(jìn)入到反應(yīng)槽中時(shí)，所述硅片的頭部邊緣略微接觸反應(yīng)槽中的腐蝕液的液面，以使得所述腐蝕液在硅片下表面形成薄膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述濕法刻蝕的上料裝置還包括獨(dú)立的循環(huán)系統(tǒng)和抽風(fēng)系統(tǒng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述反應(yīng)槽的材質(zhì)為聚丙烯，其長(zhǎng)度為400-1000nm。