[實用新型]涂膠裝置

有效

• 申請號: 201721643772.2
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN207502910U
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: 趙濱;陳勇輝
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

本實用新型提供了一種涂膠裝置，所述涂膠裝置包括承載臺和吹氣機構，所述承載臺用于承載基底，涂膠時，所述吹氣機構移動至所述承載臺的上方并向所述承載臺吹氣，以使光刻膠涂布于所述基底表面。本實用新型采用吹氣機構向承載臺吹氣的方式，與現有技術相比提高了光刻膠的利用率。

技術領域

本實用新型涉及半導體領域，具體涉及一種涂膠裝置。

背景技術

在半導體器件制造和先進封裝工藝中，光刻是至關重要的步驟。光刻是指在基板(如半導體基底)上經過光刻膠涂敷、曝光、顯影等處理，將光刻掩模板(MASK)上設計好的圖案轉移到基板表面的膜層中的過程。在光刻膠涂敷工藝中，一般是將基板(如半導體基底)放入專門的涂膠裝置中，采用旋涂膠法(spin coating)或者噴涂膠法(spray coating)。

旋涂膠法是在基板上點特定量的經過稀釋的光刻膠，然后旋轉基板，通過高速旋轉時的離心力將光刻膠均勻的分布在基板上，多余的膠被甩出基板之外。噴涂膠法是將光刻膠霧化成微小顆粒，然后噴涂到基板表面。

發明人研究發現，無論是旋涂膠法還是噴涂膠法，光刻膠的損失率都比較高。另外，這兩種方法都需要稀釋光刻膠，光刻膠經過稀釋后，其粘度將會降低，光刻膠本身的特性也發生了變化。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種涂膠裝置及涂膠方法，以提高光刻膠的利用率。

本實用新型的另一目的是提供一種涂膠裝置及涂膠方法，無需稀釋光刻膠，確保光刻膠的粘度，避免光刻膠特性發生變化。

為了實現上述目的，本實用新型的第一方面提供一種涂膠裝置，包括承載臺和吹氣機構，所述承載臺用于承載基底，所述吹氣機構在基底點膠后移動至所述承載臺的上方并向所述承載臺吹氣，以使光刻膠均勻涂布于所述基底表面。

可選的，所述吹氣機構包括供氣單元以及噴氣單元，所述供氣單元與所述噴氣單元連接并用于向所述噴氣單元供氣，所述噴氣單元面向所述承載臺并向所述承載臺吹氣。

可選的，所述噴氣單元面向所述承載臺的一側具有多個通氣孔，通過所述通氣孔向所述承載臺吹氣。

可選的，所述多個通氣孔均勻分布，所述多個通氣孔的孔徑小于或等于1mm。

可選的，所述噴氣單元面向所述承載臺的一側具有一個條狀縫隙；或者，所述噴氣單元面向所述承載臺的一側設置有兩個相互垂直的條狀縫隙。

可選的，所述基底為圓形基底，所述條狀縫隙的長度直徑大于或等于所述圓形基底的直徑，所述條狀縫隙的寬度在0.5mm～5mm之間。

可選的，所述噴氣單元由多孔介質材料制成，通過所述多孔介質材料的孔隙向所述承載臺吹氣。

可選的，所述噴氣單元為圓盤狀結構或圓錐狀結構。

可選的，所述基底為圓形基底，所述噴氣單元面向所述承載臺的表面的直徑大于或等于所述圓形基底的直徑。

可選的，所述吹氣機構面向所述承載臺的表面與所述承載臺的距離在0.1mm～2mm之間。

可選的，還包括一吹氣機構驅動單元，所述吹氣機構驅動單元與所述吹氣機構連接并用于驅動所述吹氣機構移動。

可選的，所述承載臺包括支撐盤、支撐柱和承載臺驅動單元，所述支撐盤與支撐柱固定連接，所述承載臺驅動單元用于驅動所述支撐柱和支撐盤旋轉。

可選的，所述支撐盤側面設置有斜向上或水平吹氣的支撐盤噴氣單元。

可選的，所述支撐盤的直徑小于承載的基底的直徑。

本實用新型的第二方面提供一種涂膠方法，包括：向位于承載臺上的基底點膠；以及吹氣機構移動至所述承載臺的上方并向所述承載臺吹氣以使光刻膠涂布于所述基底表面。