[實用新型]磁流體密封裝置及半導體設備

有效

• 申請號: 201721638653.8
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN207935445U
• 公開（公告）日: 2018-10-02
• 發明（設計）人: 石志平;吳宗祐;林宗賢
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: F16J15/43
• 分類號: F16J15/43
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 余明偉

本實用新型提供一種磁流體密封裝置及半導體設備，所述磁流體密封裝置包括：兩個平行間隔排布的環形磁極，所述環形磁極內形成有第一通孔，兩所述環形磁極的第一通孔對應設置；環形永磁體，位于兩所述環形磁極之間；磁流體，位于各所述環形磁極內側。本實用新型的磁流體密封裝置采用磁流體可以對介質進行嚴密的高度穩定的動密封或靜密封，從而不會存在泄漏；本實用新型采用磁流體實現密封，磁流體是一種惰性、穩定、低蒸氣壓的二酯基有機物，其揮發量極低，可長期使用，使用壽命長，甚至可以達到10年以上無需維修；本實用新型的磁流體密封裝置不存在機械磨損，沒有微粒產生，不會造成污染。

技術領域

本實用新型涉及半導體設備技術領域，特別是涉及一種磁流體密封裝置及半導體設備。

背景技術

在現有的半導體設備(譬如，離子注入機臺)中，設備真空和大氣之間的運動部件是采用接觸式密封圈，接觸式密封圈存在易磨損、功耗大、壽命低等問題，運動部件的摩擦會使得密封圈磨損從而造成真空泄露，使得真空腔不能達到所需的高真空，從而影響機臺的正常運行；即使在密封處設置抽氣管路也只能減少漏率，并不能完全避免真空泄露的問題。同時，密封圈磨損會造成微粒產生，產生的微粒會進入真空腔室造成污染。

實用新型內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種磁流體密封裝置及半導體設備，用于解決現有技術中采用接觸式密封圈密封而導致的真空泄露問題及容易產生微粒造成真空腔室污染的問題。

為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種磁流體密封裝置，所述磁流體密封裝置包括：

兩個平行間隔排布的環形磁極，所述環形磁極內形成有第一通孔，兩所述環形磁極的第一通孔對應設置；

環形永磁體，位于兩所述環形磁極之間；

磁流體，位于各所述環形磁極內側。

優選地，兩所述環形磁極的間距與所述環形永磁體的厚度相同。

優選地，所述環形永磁體包括永磁鐵。

優選地，所述磁流體呈環形分布。

優選地，所述磁流體包括二酯基磁流體。

優選地，所述環形永磁體內形成有第二通孔，所述第二通孔的中軸線與所述第一通孔的中軸線相重合。

優選地，所述磁流體密封裝置還包括非磁性外殼，所述非磁性外殼套置于所述環形磁極、所述環形永磁體及所述磁流體外圍；所述非磁性外殼內設有第三通孔，所述第三通孔的中軸線與所述第一通孔的中軸線及所述第二通孔的中軸線相重合。

本實用新型還提供一種半導體設備，所述半導體設備包括：

運動軸；

至少一個如上述任一方案中所述的磁流體密封裝置；其中，所述環形磁極套置于所述運動軸的外圍，且兩所述環形磁極沿所述運動軸的長度方向排布；所述環形永磁體套置于所述運動軸的外圍；所述磁流體環繞于所述運動軸的外圍，且位于所述運動軸與各所述環形磁極之間，所述磁流體與所述運動軸的外壁及所述環形磁極的內壁相接觸。

優選地，所述環形永磁體的內壁與所述運動軸的外壁具有間距。

優選地，所述磁流體密封裝置的數量為多個，多個所述磁流體密封裝置沿所述運動軸的長度方向排布。

優選地，相鄰所述磁流體密封裝置的間距與所述磁流體密封裝置中兩所述環形磁極之間的間距相同。