[實用新型]等離子體增強化學氣相沉積設備

有效

• 申請號: 201721629939.X
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN207713814U
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發明（設計）人: 胡冬冬
• 申請（專利權）人: 江蘇魯汶儀器有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/52
• 代理公司: 北京得信知識產權代理有限公司 11511
• 代理人: 袁偉東;袁建水

1.一種等離子體增強化學氣相沉積設備，包括：真空腔體(10)，其內設置有多個加熱元件；加熱臺(20)，其設置在所述真空腔體(10)的內部；勻氣裝置(30)，其設置在所述真空腔體(10)的內部，并位于所述加熱臺(20)的上方，且朝向所述加熱臺(20)出氣；以及進氣裝置(40)，其設置在所述真空腔體(10)的外部，并與所述勻氣裝置(30)相通，其特征在于，

所述等離子體增強化學氣相沉積設備還包括：

通孔(11)，其設置所述真空腔體(10)的位置高于所述加熱臺(20)的腔壁上，并且通過透明密封件(50)與所述真空腔體(10)實現密封連接，以及

紅外熱像儀(60)，其設置在所述真空腔體(10)的外側，并經由所述透明密封件(50)對所述加熱臺(20)的溫度進行探測。

2.根據權利要求1所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述紅外熱像儀(60)包括紅外探測攝像頭(61)、控制器(62)和控制計算機(63)，所述紅外探測攝像頭(61)與所述通孔(11)對準，經由所述透明密封件(50)對所述真空腔體(10)的內部進行紅外線攝像，從而對溫度進行探測。

3.根據權利要求2所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述通孔(11)的中心軸線延伸穿過所述加熱臺(20)。

4.根據權利要求3所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述通孔(11)為臺階狀的階梯孔，包括粗徑部(111)、細徑部(112)以及位于所述粗徑部(111)和所述細徑部(112)之間的臺階面，所述細徑部(112)從所述臺階面朝向所述真空腔體(10)內延伸，所述粗徑部(111)朝向所述真空腔體(10)外延伸，所述透明密封件(50)安裝在所述臺階面上。

5.根據權利要求4所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述臺階面上設有密封槽(113)，所述密封槽(113)內設有密封圈，所述透明密封件(50)通過中空法蘭盤(41)抵壓在所述密封圈上。

6.根據權利要求5所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述真空腔體(10)包括上端開口的圓柱形凹槽(12)和腔室上蓋(13)，所述腔室上蓋(13)封蓋所述圓柱形凹槽(12)，所述勻氣裝置(30)設置在所述腔室上蓋(13)上。

7.根據權利要求6所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述真空腔體(10)為長方體，所述長方體在靠近所述腔室上蓋(13)的頂角處形成斜面(14)，所述通孔(11)設置在所述斜面(14)上。

8.根據權利要求7所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述通孔(11)的中心軸線垂直于所述斜面(14)。

9.根據權利要求1～8中任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積設備，其特征在于，

所述等離子體增強化學氣相沉積設備還包括升降調節機構(70)，其設置在所述真空腔體(10)的底部，所述升降調節機構(70)包括升降桿(71)，所述升降桿(71)的一端與所述加熱臺(20)連接，所述升降桿(71)的另一端伸出到所述真空腔體(10)外。