[實用新型]一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架

有效

• 申請號: 201721587523.6
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN207398062U
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發明（設計）人: 劉向偉;劉善石
• 申請（專利權）人: 昆山索坤萊機電科技有限公司
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01L21/673
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架，真空箱體內兩側為固定側板，固定側板上設有若干絕緣滑道，物料架通過絕緣滑道設置在真空箱體內，物料架的上方安裝有極板，所述物料架由物料托架和物料載具組成，所述物料托架上設有若干均勻排布設置的圓形的物料載具，物料載具底部通過支撐柱固定在物料托架上，所述物料載具的表面設有若干用于放置指紋模組的載物槽，所述物料托架上設有若干通氣孔。此種結構物料托架開方形通氣口，保證每個產品都能均勻的處理到，提高處理后產品表面能的均勻性，達到最佳處理效果。有序擺放位置，合理的利用了真空箱室內部空間，提高每次工作處理產量。

技術領域

本實用新型涉及等離子表面處理設備技術領域，特別涉及一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架。

背景技術

等離子體表面處理設備已廣泛應用于PCB制造、電子電路、電子電器、汽車制造、半導體制造、包裝、印刷、涂覆、高分子材料、塑膠五金、醫療器械、滅菌等行業，目前已經成為中國最大的真空等離子體處理設備生產領域，產品面涉及極為廣泛，目前，在等離子表面處理設備的真空箱體內的普通真空箱室物料托架結構簡單，沒有針對性，處理產品時箱體內空間利用不足，嚴重影響處理產量。只能用料盒處理，處理后產品表面能不均勻，影響后期產品質量。

發明內容

為了克服上述缺陷，本實用新型提供了一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架，專門用在整套治具裝載后指紋模組處理，省去了中間工序，節省了生產時間，提高工作效率。

本實用新型為了解決其技術問題所采用的技術方案是：一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架，真空箱體內兩側為固定側板，固定側板上設有若干絕緣滑道，物料架通過絕緣滑道設置在真空箱體內，物料架的上方安裝有極板，所述物料架由物料托架和物料載具組成，所述物料托架上設有若干均勻排布設置的圓形的物料載具，物料載具底部通過支撐柱固定在物料托架上，所述物料載具的表面設有若干用于放置指紋模組的載物槽，所述物料托架上設有若干通氣孔。

作為本實用新型的進一步改進，所述通氣孔為方形通氣孔。

本實用新型的有益效果是：本實用新型的等離子處理真空箱體指紋模組物料架專門用在整套治具裝載后指紋模組處理，省去了中間工序，節省了生產時間，提高工作效率。此種結構物料托架開方形通氣口，保證每個產品都能均勻的處理到，提高處理后產品表面能的均勻性，達到最佳處理效果。有序擺放位置，合理的利用了真空箱室內部空間，提高每次工作處理產量。

附圖說明

圖1為本實用新型真空箱體整體結構示意圖；

圖2 為本實用新型結構示意圖；

圖中標示：1-真空箱體；2-固定側板；3-絕緣滑道；4-物料架；5-極板；6-物料托架；7-物料載具；8-支撐柱；9-載物槽；10-通氣孔。

具體實施方式

為了加深對本實用新型的理解，下面將結合實施例和附圖對本實用新型作進一步詳述，該實施例僅用于解釋本實用新型，并不構成對本實用新型保護范圍的限定。

圖1-2示出了本實用新型一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架的一種實施方式，真空箱體1內兩側為固定側板2，固定側板2上設有若干絕緣滑道3，物料架4通過絕緣滑道3設置在真空箱體1內，物料架4的上方安裝有極板5，所述物料架4由物料托架6和物料載具7組成，所述物料托架6上設有若干均勻排布設置的圓形的物料載具7，物料載具7底部通過支撐柱8固定在物料托架6上，所述物料載具7的表面設有若干用于放置指紋模組的載物槽9，所述物料托架6上設有若干通氣孔10。所述通氣孔10為方形通氣孔。