[實用新型]一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架

有效

• 申請號: 201721587523.6
• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN207398062U
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發明（設計）人: 劉向偉;劉善石
• 申請（專利權）人: 昆山索坤萊機電科技有限公司
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01L21/673
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架，真空箱體(1)內兩側為固定側板(2)，固定側板(2)上設有若干絕緣滑道(3)，物料架(4)通過絕緣滑道(3)設置在真空箱體(1)內，物料架(4)的上方安裝有極板(5)，其特征在于：所述物料架(4)由物料托架(6)和物料載具(7)組成，所述物料托架(6)上設有若干均勻排布設置的圓形的物料載具(7)，物料載具(7)底部通過支撐柱(8)固定在物料托架(6)上，所述物料載具(7)的表面設有若干用于放置指紋模組的載物槽(9)，所述物料托架(6)上設有若干通氣孔(10)。

2.根據權利要求1所述的一種等離子處理真空箱體指紋模組物料架，其特征在于：所述通氣孔(10)為方形通氣孔。