[實用新型]一種納米抗污拋光機

有效

• 申請號: 201721577884.2
• 申請日: 2017-11-22
• 公開（公告）號: CN207606657U
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發明（設計）人: 楊揚;李松
• 申請（專利權）人: 廣東賽因迪科技股份有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B29/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 謝泳祥

本實用新型公開了一種納米抗污拋光機，包括機架，所述機架上設有輸送機構，所述機架包括有工作平臺，所述工作平臺上設有輸送帶，所述機架上還設有支撐架，所述支撐架的橫梁上安裝有拋光系統，所述拋光系統包括旋轉平臺，所述旋轉平臺相對于橫梁做旋轉運動；所述旋轉平臺上安裝有多個拋刷裝置，多個拋刷裝置分布在旋轉平臺的端面上，所述拋刷裝置包括有公轉盤，所述公轉盤上安裝有多個的拋光機構，所述拋光機構包括安裝基板與磨輪。本實用新型通過利用旋轉平臺以及公轉盤帶動磨輪做兩級的回旋運動，而磨輪本身又做高速的自轉運動，由于取消了導致停留時間不均的擺動機構，且磨輪執行的是較為復雜的公轉與自轉的運動，從而使得拋刷更加均勻。

技術領域

本實用新型涉及一種建筑材料的表面加工設備，特別是拋光機。

背景技術

納米抗污拋光機主要工藝特點是將粒度在10nm以下的納米粒子填塞進陶瓷或石材開放于表面的微細孔隙和裂縫中，并最終反應生成穩定的價鍵結構，從而封堵各種污染源的滲入。該類設備主要用于改善陶瓷或石材表面的抗污性能和質感。通常地，在此類設備中，被加工板材的上方設置有一個梁，梁上設置多組拋刷磨頭，梁可以橫向于板材供應方向做直線的往復移動，以便拋刷磨頭的作業區域能夠覆蓋板材的整個寬度。移動的幅度隨著板材的寬度尺寸而變化。隨著寬度尺寸變得越來越大，現有擺動式納米抗污拋光機的缺點越實用新型顯，由于待加工的板材非常寬，梁的移動幅度會很大，為了保證均勻的加工效果，就需要降低供應方向的速度，從而整體的加工效率變得低下；同時由于往復移動時，當移動方向需要變換的時候，梁需要有一定的停留時間，擺動停留時間的不均勻性會導致被加工工件表面產生色帶，影響裝飾效果。針對該不足，中國專利CN201710004750.X公開了一種用于大面積瓷磚表面拋刷制膜的設備，雖然可以減少梁的移動幅度，但是仍然無法克服拋刷的不均勻問題，而且現有的拋光機在更換磨輪的時候，操作十分不便，增加了工人的勞動強度。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：提供一種可以大范圍加工的高效的而且均勻性好的拋光機。

本實用新型解決其技術問題的解決方案是：一種納米抗污拋光機，包括機架，所述機架上設有輸送機構，所述機架包括有工作平臺，所述工作平臺上設有輸送帶，所述輸送機構驅動輸送帶循環往復運動，所述機架上還設有支撐架，所述支撐架橫跨在工作臺的兩端，所述支撐架的橫梁上安裝有拋光系統，所述拋光系統包括旋轉平臺，所述旋轉平臺相對于橫梁做旋轉運動；所述旋轉平臺上安裝有多個拋刷裝置，多個拋刷裝置分布在旋轉平臺的端面上，所述拋刷裝置包括有公轉盤，所述公轉盤上安裝有多個的拋光機構，所述拋光機構包括安裝基板與磨輪。

作為上述技術方案的進一步改進，所述拋刷裝置還包括升降機構，所述升降機構安裝在旋轉平臺上，所述公轉盤安裝在升降機構上。

作為上述技術方案的進一步改進，所述升降機構包括滑動套、主軸與驅動氣缸，所述驅動氣缸帶動主軸沿著滑動套上下移動，所述公轉盤與主軸的下端固定連接。

作為上述技術方案的進一步改進，所述升降機構還包括限位塊，所述限位塊固定在滑動套上。

作為上述技術方案的進一步改進，所述安裝基板與磨輪之間通過搭扣方式安裝。

作為上述技術方案的進一步改進，所述安裝基板與磨輪之間還設有減震墊片。

作為上述技術方案的進一步改進，所述支撐架與拋光系統均有兩個，兩個拋光系統沿著輸送帶的前進方向前后分布，兩個拋光系統的旋轉平臺的轉動方向相反。

作為上述技術方案的進一步改進，位于前方的拋光系統的磨輪的顆粒度大于后方的拋光系統的磨輪的顆粒度。

本實用新型的有益效果是：本實用新型通過利用旋轉平臺以及公轉盤帶動磨輪做兩級的回旋運動，而磨輪本身又做高速的自轉運動，由于取消了導致停留時間不均的擺動機構，且磨輪執行的是較為復雜的公轉與自轉的運動，從而使得拋刷更加均勻。

附圖說明