[實用新型]一種納米抗污拋光機

有效

• 申請號: 201721577884.2
• 申請日: 2017-11-22
• 公開（公告）號: CN207606657U
• 公開（公告）日: 2018-07-13
• 發明（設計）人: 楊揚;李松
• 申請（專利權）人: 廣東賽因迪科技股份有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B29/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 謝泳祥

1.一種納米抗污拋光機，包括機架(1)，所述機架(1)上設有輸送機構(2)，所述機架(1)包括有工作平臺，所述工作平臺上設有輸送帶，所述輸送機構(2)驅動輸送帶循環往復運動，所述機架(1)上還設有支撐架(11)，所述支撐架(11)橫跨在工作臺的兩端，所述支撐架(11)的橫梁上安裝有拋光系統(3)，其特征在于：所述拋光系統(3)包括旋轉平臺(31)，所述旋轉平臺(31)相對于橫梁做旋轉運動；所述旋轉平臺(31)上安裝有多個拋刷裝置(32)，多個拋刷裝置(32)分布在旋轉平臺(31)的端面上，所述拋刷裝置(32)包括有公轉盤(321)，所述公轉盤(321)上安裝有多個的拋光機構(33)，所述拋光機構(33)包括安裝基板(331)與磨輪(332)。

2.根據權利要求1所述的納米抗污拋光機，其特征在于：所述拋刷裝置(32)還包括升降機構(322)，所述升降機構(322)安裝在旋轉平臺(31)上，所述公轉盤(321)安裝在升降機構(322)上。

3.根據權利要求2所述的納米抗污拋光機，其特征在于：所述升降機構(322)包括滑動套、主軸與驅動氣缸，所述驅動氣缸帶動主軸沿著滑動套上下移動，所述公轉盤(321)與主軸的下端固定連接。

4.根據權利要求3所述的納米抗污拋光機，其特征在于：所述升降機構(322)還包括限位塊，所述限位塊設置在滑動套上。

5.根據權利要求1所述的納米抗污拋光機，其特征在于：所述安裝基板(331)與磨輪(332)之間通過搭扣方式安裝。

6.根據權利要求5所述的納米抗污拋光機，其特征在于：所述安裝基板(331)與磨輪(332)之間還設有減震墊片。

7.根據權利要求1-6任意一項所述的納米抗污拋光機，其特征在于：所述支撐架(11)與拋光系統(3)均有兩個，兩個拋光系統(3)沿著輸送帶的前進方向前后分布，兩個拋光系統(3)的旋轉平臺(31)的轉動方向相反。

8.根據權利要求7所述的納米抗污拋光機，其特征在于：位于前方的拋光系統(3)的磨輪(332)的顆粒度大于后方的拋光系統的磨輪(332)的顆粒度。