[實用新型]濺射鍍膜系統

有效

• 申請號: 201721569972.8
• 申請日: 2017-11-22
• 公開（公告）號: CN207512255U
• 公開（公告）日: 2018-06-19
• 發明（設計）人: 張睿智;唐健;王迎;余輝;陸張武;徐征馳;張啟斌
• 申請（專利權）人: 浙江水晶光電科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 趙志遠

本實用新型提供了一種濺射鍍膜系統，涉及鍍膜設備技術領域，包括濺射鍍膜機，濺射鍍膜機設置有氫氣入口，氫氣入口連通有氫氣發生器，緩解了在制備氫化硅薄膜的過程中，采用高壓氫氣鋼瓶或氫氣與其它氣體混合的鋼瓶與濺射鍍膜機相連接，高壓氫氣鋼瓶存在嚴重的安全隱患，而氫氣與其它氣體混合的鋼瓶內的氫氣純度低，會導致氫化硅薄膜的折射率低，穩定性差的技術問題，達到了通過采用氫氣發生器與氫氣入口相連通，直接通過氫氣發生器制取高純氫氣供濺射鍍膜使用，消除了安全隱患，同時避免了雜質氣體的引入，保證了氫氣的高純度，為氫化硅薄膜的折射率和穩定性提供了保障。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，尤其是涉及一種濺射鍍膜系統。

背景技術

目前，隨著科學技術的發展，氫化硅薄膜以其優良的熱穩定性和化學穩定性、較大的熱傳導率、高電子遷移率、高電子飽和漂移速度、高擊穿場強和低介電常數等優點，在航空、航天、石油勘探、核能和通信領域具有廣泛的應用前景。現有的氫化硅薄膜大都通過濺射鍍膜法制備而成。現有的氫化硅薄膜在制備過程中，常常采用高壓氫氣鋼瓶或氫氣與其它氣體混合的鋼瓶與濺射鍍膜機相連接，以完成氫化硅薄膜的鍍制，但是高壓氫氣鋼瓶存在嚴重的安全隱患，而氫氣與其它氣體混合的鋼瓶內的氫氣純度低，會導致氫化硅薄膜的折射率低，穩定性差。

有鑒于此，特提出本實用新型。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種濺射鍍膜系統，以緩解現有的氫化硅薄膜在制備過程中，常常采用高壓氫氣鋼瓶或氫氣與其它氣體混合的鋼瓶與濺射鍍膜機相連接，高壓氫氣鋼瓶存在嚴重的安全隱患，而氫氣與其它氣體混合的鋼瓶內的氫氣純度低，會導致氫化硅薄膜的折射率低，穩定性差的技術問題。

本實用新型提供的濺射鍍膜系統，包括濺射鍍膜機，所述濺射鍍膜機設置有氫氣入口，所述氫氣入口連通有氫氣發生器。

進一步的，所述氫氣發生器包括依次連通的電解槽和氣水分離器，所述氣水分離器的頂部設置有氣體出口，所述氣體出口與所述氫氣入口相連通。

進一步的，所述氫氣發生器還包括依次連通的第一干燥器和第二干燥器，所述第一干燥器和所述第二干燥器均設置于所述氣體出口與所述氫氣入口之間，所述第一干燥器與所述氣體出口相連通，所述第二干燥器與所述氫氣入口相連通。

進一步的，所述氫氣發生器還包括水箱，所述水箱與所述電解槽相連通，所述氣水分離器的底部還設置有出水口，所述出水口與所述水箱相連通。

進一步的，所述水箱的側壁設置有水位計，用于測量所述水箱中的水量。

進一步的，所述濺射鍍膜系統還包括儲水罐，所述儲水罐與所述水箱相連通，所述儲水罐用于給所述水箱補水。

進一步的，所述儲水罐與所述水箱之間設置有補水泵。

進一步的，所述氣體出口與所述氫氣入口之間設置有氣體流量控制閥。

進一步的，所述濺射鍍膜機還設置有惰性氣體入口，所述惰性氣體入口連通有惰性氣體儲罐。

進一步的，所述濺射鍍膜機還設置有硅靶。

本實用新型提供的濺射鍍膜系統，通過采用氫氣發生器與氫氣入口相連通，直接通過氫氣發生器制取高純氫氣氣體供濺射鍍膜使用，消除了安全隱患，同時避免了雜質氣體的引入，保證了氫氣的高純度，為氫化硅薄膜的折射率和穩定性提供了保障。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型實施例1提供的濺射鍍膜系統的結構示意圖；