[實用新型]濺射鍍膜系統有效
| 申請號： | 201721569972.8 | 申請日： | 2017-11-22 |
| 公開（公告）號： | CN207512255U | 公開（公告）日： | 2018-06-19 |
| 發明（設計）人： | 張睿智;唐健;王迎;余輝;陸張武;徐征馳;張啟斌 | 申請（專利權）人： | 浙江水晶光電科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 趙志遠 |
| 地址： | 318000 浙江省臺州市椒*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鋼瓶 濺射鍍膜機 氫氣發生器 濺射鍍膜 氫氣入口 氫氣 氫化硅薄膜 安全隱患 高壓氫氣 氣體混合 折射率 本實用新型 鍍膜設備 高純氫氣 氫氣純度 雜質氣體 制備氫化 高純度 硅薄膜 制取 連通 引入 緩解 保證 | ||
1.一種濺射鍍膜系統，其特征在于，包括濺射鍍膜機，所述濺射鍍膜機設置有氫氣入口，所述氫氣入口連通有氫氣發生器。
2.根據權利要求1所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述氫氣發生器包括依次連通的電解槽和氣水分離器，所述氣水分離器的頂部設置有氣體出口，所述氣體出口與所述氫氣入口相連通。
3.根據權利要求2所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述氫氣發生器還包括依次連通的第一干燥器和第二干燥器，所述第一干燥器和所述第二干燥器均設置于所述氣體出口與所述氫氣入口之間，所述第一干燥器與所述氣體出口相連通，所述第二干燥器與所述氫氣入口相連通。
4.根據權利要求2所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述氫氣發生器還包括水箱，所述水箱與所述電解槽相連通，所述氣水分離器的底部還設置有出水口，所述出水口與所述水箱相連通。
5.根據權利要求4所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述水箱的側壁設置有水位計，用于測量所述水箱中的水量。
6.根據權利要求4所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，還包括儲水罐，所述儲水罐與所述水箱相連通，所述儲水罐用于給所述水箱補水。
7.根據權利要求6所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述儲水罐與所述水箱之間設置有補水泵。
8.根據權利要求2-7任一項所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述氣體出口與所述氫氣入口之間設置有氣體流量控制閥。
9.根據權利要求1-7任一項所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述濺射鍍膜機還設置有惰性氣體入口，所述惰性氣體入口連通有惰性氣體儲罐。
10.根據權利要求1-7任一項所述的濺射鍍膜系統，其特征在于，所述濺射鍍膜機還設置有硅靶。
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