[實用新型]抗蝕劑層的薄膜化裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721541196.0 | 申請日： | 2017-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN207473302U | 公開（公告）日： | 2018-06-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 豐田裕二;后閑寬彥 | 申請（專利權）人： | 三菱制紙株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/30 | 分類號： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 張澤洲;劉林華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 薄膜化處理 抗蝕劑層 薄膜化裝置 出口輥 浸漬槽 除液 供給機構 本實用新型 析出 不均勻 附著 基板 覆蓋 | ||
【權利要求書】：
1.一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，前述抗蝕劑層的薄膜化裝置構成為具備薄膜化處理單元，前述薄膜化處理單元對被形成于基板上的抗蝕劑層供給薄膜化處理液，其特征在于，
薄膜化處理單元具有浸漬槽、浸漬槽的出口輥對、薄膜化處理單元的出口輥對、除液輥對，前述浸漬槽裝有薄膜化處理液，前述除液輥對被設置于浸漬槽的出口輥對和薄膜化處理單元的出口輥對之間，
進而，薄膜化處理單元具有薄膜化處理液供給機構，前述薄膜化處理液供給機構對該除液輥對供給薄膜化處理液。
2.如權利要求1所述的抗蝕劑層的薄膜化裝置，其特征在于，
薄膜化處理液供給機構是對除液輥對的上側輥供給薄膜化處理液的噴嘴。
3.如權利要求1所述的抗蝕劑層的薄膜化裝置，其特征在于，
薄膜化處理液供給機構是對除液輥對的下側輥供給薄膜化處理液的輥浸漬槽。
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