[實用新型]一種晶體硅太陽能電池結構有效
| 申請號: | 201721534081.9 | 申請日: | 2017-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN207542252U | 公開(公告)日: | 2018-06-26 |
| 發明(設計)人: | 趙科雄;賈苗苗;許慶豐 | 申請(專利權)人: | 隆基樂葉光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/02 | 分類號: | H01L31/02;H01L31/0224;H01L31/054;H01L31/0747 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 徐文權 |
| 地址: | 710018 陜西省西安市西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 減反射膜 納米銀線 透明導電膜 晶體硅太陽能電池 本實用新型 隧穿氧化層 背面電極 微晶硅層 正面電極 電接觸 穿透 摻雜 導電膜形成 電池表面 晶體硅片 轉換效率 導電膜 光反射 制作 | ||
本實用新型公開了一種晶體硅太陽能電池結構,自上而下依次包括正面電極、第一減反射膜、第一納米銀線透明導電膜、第一摻雜多/微晶硅層、第一隧穿氧化層、晶體硅片、第二隧穿氧化層、第二摻雜多/微晶硅層、第二納米銀線導電膜、第二減反射膜和背面電極;正面電極穿透第一減反射膜與第一納米銀線透明導電膜形成電接觸;背面電極穿透第二減反射膜與第二納米銀線導電膜形成電接觸。本實用新型在納米銀線透明導電膜上制作減反射膜,大大降低了電池表面的光反射,提高了轉換效率。
技術領域
本實用新型屬于太陽能電池技術領域,特別涉及一種晶體硅太陽能電池結構。
背景技術
自1954年第一塊太陽能電池在貝爾實驗室誕生以來,晶體硅太陽能電池得到了廣泛的應用,轉換效率不斷提升,生產成本持續下降。目前,晶體硅太陽能電池占太陽能電池全球市場總額的80%以上,晶體硅電池片的產線轉換效率目前已突破21%,全球年新增裝機容量接近70GW且增速明顯,與火力發電的度電成本不斷縮小,在未來幾年有望與之持平。晶體硅太陽能電池作為一種清潔能源在改變能源結構、緩解環境壓力等方面的重要作用日益凸顯。
晶體硅雙面電池可以更有效的利用太陽光,轉換效率高,在同等輻照下可以產生更多的電力,比如N-PERT雙面電池、P-PERC雙面電池等。這些雙面電池的鈍化膜由于金屬電極的存在而非全覆蓋,這使得表面鈍化電池的少子復合速率不能進一步降低,效率提升受限。且均需經高溫熱擴散工藝,這對硅片的品質影響較大。
鈍化接觸是近幾年發展起來的一種高效電池技術,該技術可以兼顧良好的鈍化和電荷收集。超薄鈍化膜上無需開孔,在保證電荷高效傳輸的基礎上,對硅片的表面全覆蓋,并提供良好的鈍化。鈍化接觸可以使電荷傳輸方向由傳統的三維變為一維,減少了電荷的傳輸路徑,降低了少子復合的幾率,電池的轉換效率、收集率、內阻得到了改善。但是常見的鈍化接觸常使用全覆蓋的金屬電極,無法形成可雙面發電的電池,且金屬電極價格昂貴,不利于電池成本的降低。
也有報道采用ITO透明導電膜代替鈍化接觸的全覆蓋金屬電極,并將鈍化接觸應用于電池的正、背面形成雙面電池。但ITO透明導電膜的制備需要昂貴的設備和靶材,制造成本較高。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種晶體硅太陽能電池結構,以解決上述問題。
為實現上述目的,本實用新型采用以下技術方案:
一種晶體硅太陽能電池結構,自上而下依次包括正面電極、第一減反射膜、第一納米銀線透明導電膜、第一摻雜多/微晶硅層、第一隧穿氧化層、晶體硅片、第二隧穿氧化層、第二摻雜多/微晶硅層、第二納米銀線導電膜、第二減反射膜和背面電極;正面電極穿透第一減反射膜與第一納米銀線透明導電膜形成電接觸;背面電極穿透第二減反射膜與第二納米銀線導電膜形成電接觸。
進一步的,晶體硅片為P型或N型的單晶硅片或多晶硅片。
進一步的,兩個隧穿氧化層均為氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氮氧化硅的一種或多種疊層,厚度為1~3nm。
進一步的,兩個減反射膜厚度均為50~100nm,減反射膜可為氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化鈦、氧化鋁薄膜的一種或多種疊層。
進一步的,正反面電極為柱狀,正反面電極為銀電極、鋁電極、鎳電極、銅電極、合金電極或金屬復合電極。
進一步的,兩個摻雜多/微晶硅層的厚度均為10~300nm;兩個納米銀線透明導電膜的厚度為50~500nm。
第一摻雜多/微晶硅層與第二摻雜多/微晶硅層中的摻雜劑類型不同。
與現有技術相比,本實用新型有以下技術效果:
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





