[實用新型]一種具有絕緣保護結構的高亮倒裝LED芯片有效
| 申請號: | 201721510080.0 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN207517723U | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發明(設計)人: | 范凱平;徐亮 | 申請(專利權)人: | 佛山市國星半導體技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/46 | 分類號: | H01L33/46;H01L33/20 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 胡楓 |
| 地址: | 528200 廣東省佛山市南海區獅*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光結構 絕緣層 孔洞 半導體層 倒裝LED芯片 絕緣保護 反射層 側邊 高亮 刻蝕 源層 裸露 芯片 本實用新型 絕緣層表面 絕緣層覆蓋 透明導電層 表面沉積 出光效率 電場作用 保護層 有效地 良率 反射 遷移 覆蓋 | ||
本實用新型公開了一種具有絕緣保護結構的高亮倒裝LED芯片,包括提供發光結構,對所述發光結構進行刻蝕,在發光結構表面沉積一層絕緣層,對所述絕緣層進行刻蝕,形成第一孔洞和第二孔洞,在所述絕緣層表面、第一孔洞內和第二孔洞內依次形成透明導電層、Ag鏡反射層、Ag鏡保護層和DBR反射層。通過在所述第一半導體層、有源層和第二半導體層在表面或側邊形成所述絕緣層,使所述絕緣層覆蓋在發光結構的裸露部分,從而防止Ag在第一半導體層和第二半導體層形成的電場作用下遷移到有源層的裸露部分,提高芯片的IR良率。進一步地,覆蓋在所述絕緣層上的Ag鏡反射層,可將發光結構側邊發出的光有效地反射出去,從而提高芯片出光效率。
技術領域
本實用新型涉及發光二極管技術領域,尤其涉及一種具有絕緣保護結構的高亮倒裝LED芯片。
背景技術
LED(Light Emitting Diode,發光二極管)是一種利用載流子復合時釋放能量形成發光的半導體器件,LED芯片具有耗電低、色度純、壽命長、體積小、響應時間快、節能環保等諸多優勢。
傳統LED芯片一般為藍寶石襯底,具有散熱性能較差,容易發生漏電,光衰嚴重,電壓高等問題,嚴重影響LED芯片的可靠性能。
倒裝LED芯片和傳統LED芯片相比,具有發光效率高、電流分布均勻、散熱好、電壓降低、效率高等優點。
現有的倒裝LED芯片一般采用Ag鏡、DBR(Distributed Bragg Reflection,分布式布拉格反射鏡)反射層或Ag鏡+DBR復合層作為反射鏡來提高芯片亮度。但是,Ag在P-GaN層與N-GaN層形成的電場作用下,易遷移到MQW層(有源層),從而導致芯片IR良率低;且Ag普遍不會沉積到MQW層,導致側邊 MQW層發出的光無法接收而亮度低。此外,DBR層又脆又硬,芯片在切割時容易使DBR層出現裂紋,從而降低芯片封裝良率。
發明內容
本實用新型所要解決的技術問題在于,提供一種具有絕緣保護結構的高亮倒裝LED芯片,具有絕緣層,提高了芯片的亮度和良率。
為了解決上述技術問題,本實用新型提供了一種具有絕緣保護結構的高亮倒裝LED芯片,包括;
襯底;
設于所述襯底表面的發光結構,所述發光結構包括依次設于所述襯底表面的第一半導體層、有源層和第二半導體層,貫穿所述第二半導體層和有源層并延伸至所述第一半導體層的中心區域和邊緣區域;
設于所述第一半導體層表面、邊緣區域側邊和中心區域側邊的絕緣層;
依次設于所述第二半導體層和絕緣層表面的透明導電層、Ag鏡反射層、Ag 鏡保護層和DBR反射層;
第一電極和第二電極,所述第一電極設置在所述中心區域,所述第二電極貫穿所述DBR反射層,并設置在所述Ag鏡保護層上。
作為上述方案的改進,所述邊緣區域的形狀為倒梯形。
作為上述方案的改進,所述第一電極的形狀為倒梯形。
作為上述方案的改進,所述透明導電層在所述絕緣層上的表面積小于所述絕緣層的表面積。
作為上述方案的改進,所述Ag鏡反射層在所述絕緣層上的表面積大于所述透明導電層的表面積,且小于所述絕緣層的表面積。
作為上述方案的改進,所述Ag鏡保護層的表面積大于所述Ag鏡反射層的表面積,并將所述Ag鏡反射層覆蓋。
作為上述方案的改進,所述DBR反射層的表面積大于所述Ag鏡保護層的表面積,并將所述Ag鏡保護層完全覆蓋。
作為上述方案的改進,所述透明導電層的材質為銦錫氧化物。
實施本實用新型,具有如下有益效果:
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