[實(shí)用新型]一種帶材熱鍍錫設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721507400.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207468707U | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王明富;王曉嬌;蔣利文;庾世松;伍青云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 桂林明富金屬股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C2/08 | 分類號(hào): | C23C2/08;C23C2/22 |
| 代理公司: | 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212 | 代理人: | 楊立;周玉婷 |
| 地址: | 541199 廣西壯族自治*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熔錫爐 帶材 放料裝置 收料裝置 鍍錫 本實(shí)用新型 鍍錫設(shè)備 凹凸不平 豎直向下 運(yùn)動(dòng)軌跡 傳輸 不均勻 鍍錫層 錫熔液 斜向上 紫銅帶 | ||
本實(shí)用新型涉及一種帶材熱鍍錫設(shè)備,包括放料裝置、熔錫爐、收料裝置和機(jī)架;所述放料裝置、所述熔錫爐和所述收料裝置均安裝在所述機(jī)架上,帶材先經(jīng)所述放料裝置豎直向下朝所述熔錫爐內(nèi)傳輸后,再于所述熔錫爐內(nèi)呈斜上狀鍍錫后向前傳輸?shù)剿鍪樟涎b置上。本實(shí)用新型的有益效果是:改變了帶材的運(yùn)動(dòng)軌跡,即帶材于熔錫爐內(nèi)呈斜向上狀鍍錫,其表面的錫熔液流動(dòng)性較好,最終克服了鍍錫紫銅帶存在表面凹凸不平,鍍錫層厚度偏薄、不均勻的缺點(diǎn),提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及電力設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于紫銅帶熱鍍錫的設(shè)備。
背景技術(shù)
鍍錫銅帶廣泛應(yīng)用于光伏太陽能電池匯流帶、信息通訊、電子、電容、電力、冶金、工程機(jī)械、機(jī)床工具、化工設(shè)備、橡膠設(shè)備、汽車零部件,以及裝飾、裝修、燈具等行業(yè)。而熱鍍錫設(shè)備作為鍍錫紫銅帶專用生產(chǎn)設(shè)備,長(zhǎng)期以來銅帶于傳統(tǒng)的熱鍍錫設(shè)備中鍍錫的工序路徑為:先經(jīng)放料裝置豎直向下傳輸后,再水平向前傳輸進(jìn)入熔錫爐內(nèi),并且于熔錫爐內(nèi)繼續(xù)保持水平狀態(tài)鍍錫,最后豎直向上運(yùn)輸?shù)绞占b置上收集起來。由于銅帶于熔錫爐內(nèi)為水平狀態(tài)鍍錫,其表面錫熔液的流動(dòng)性較差,最終鍍錫紫銅帶存在表面凹凸不平,鍍錫層厚度偏薄、不均勻的缺點(diǎn),降低了鍍錫銅帶的產(chǎn)品質(zhì)量,同時(shí)限制了鍍錫銅帶使用范圍。
實(shí)用新型內(nèi)容
綜上所述,為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,本實(shí)用新型解決的技術(shù)問題在于提供一種用于紫銅帶熱鍍錫的設(shè)備,其做了全新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),以改進(jìn)鍍錫銅帶外觀質(zhì)量和提高生產(chǎn)效率,獲得同種規(guī)格產(chǎn)品其鍍錫層厚度多種類,拓展產(chǎn)品適用范圍。
本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下:一種帶材熱鍍錫設(shè)備,包括放料裝置、熔錫爐、收料裝置和機(jī)架;所述放料裝置、所述熔錫爐和所述收料裝置均安裝在所述機(jī)架上,帶材先經(jīng)所述放料裝置豎直向下朝所述熔錫爐內(nèi)傳輸后,再于所述熔錫爐內(nèi)呈斜上狀鍍錫后向前傳輸?shù)剿鍪樟涎b置上。
本實(shí)用新型的有益效果是:改變了帶材的運(yùn)動(dòng)軌跡,即帶材于熔錫爐內(nèi)呈斜向上狀鍍錫,其表面的錫熔液流動(dòng)性較好,最終克服了鍍錫紫銅帶存在表面凹凸不平,鍍錫層厚度偏薄、不均勻的缺點(diǎn),提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本實(shí)用新型還可以做如下改進(jìn):
進(jìn)一步,還包括助焊劑裝置和刮錫機(jī)構(gòu);所述放料裝置處于所述機(jī)架一側(cè)的上部,所述熔錫爐處于所述機(jī)架上對(duì)應(yīng)所述放料裝置正下方的位置處,所述助焊劑裝置處于所述機(jī)架上對(duì)應(yīng)所述放料裝置和所述熔錫爐之間的位置處;所述機(jī)架上對(duì)應(yīng)所述熔錫爐的上方設(shè)有用于將帶材浸入所述熔錫爐內(nèi)的刮錫機(jī)構(gòu);
所述收料裝置處于所述機(jī)架上與所述熔錫爐相對(duì)的一側(cè)的上方,帶材從所述放料裝置開始先豎直向下傳輸并穿過所述助焊劑裝置和所述刮錫機(jī)構(gòu)到達(dá)到所述熔錫爐的上方,再被所述刮錫機(jī)構(gòu)下壓浸入到所述熔錫爐內(nèi),并于所述熔錫爐內(nèi)呈斜上狀向前傳輸?shù)剿鍪樟涎b置上。
進(jìn)一步,所述機(jī)架上對(duì)應(yīng)所述收料裝置下方的位置處設(shè)有將帶材引導(dǎo)輸送至收料裝置的牽引機(jī)構(gòu)。
采用上述進(jìn)一步方案的有益效果是:實(shí)現(xiàn)帶材按照預(yù)定的軌跡傳輸,保證帶材于熔錫爐內(nèi)呈斜向上狀鍍錫,從而確保產(chǎn)品的質(zhì)量。
進(jìn)一步,所述熔錫爐固定在所述機(jī)架上,所述刮錫機(jī)構(gòu)相對(duì)于所述熔錫爐可上下位移的安裝在所述機(jī)架上。
采用上述進(jìn)一步方案的有益效果是:改變了刮錫機(jī)構(gòu)和熔錫爐的運(yùn)動(dòng)關(guān)系,即將熔錫爐固定,上下位移刮錫機(jī)構(gòu),避免移動(dòng)熔錫爐時(shí)會(huì)發(fā)生錫熔液飛濺的風(fēng)險(xiǎn)。
進(jìn)一步,所述機(jī)架上對(duì)應(yīng)所述熔錫爐與牽引機(jī)構(gòu)之間的位置處設(shè)有將鍍錫后的帶材冷卻降溫的冷卻裝置。
進(jìn)一步,所述冷卻裝置為鼓風(fēng)機(jī)。
采用上述進(jìn)一步方案的有益效果是:冷卻效果好,提高產(chǎn)品質(zhì)量。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物





