[實(shí)用新型]一種帶材熱鍍錫設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721507400.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207468707U | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王明富;王曉嬌;蔣利文;庾世松;伍青云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 桂林明富金屬股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C2/08 | 分類號(hào): | C23C2/08;C23C2/22 |
| 代理公司: | 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212 | 代理人: | 楊立;周玉婷 |
| 地址: | 541199 廣西壯族自治*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熔錫爐 帶材 放料裝置 收料裝置 鍍錫 本實(shí)用新型 鍍錫設(shè)備 凹凸不平 豎直向下 運(yùn)動(dòng)軌跡 傳輸 不均勻 鍍錫層 錫熔液 斜向上 紫銅帶 | ||
1.一種帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,包括放料裝置(1)、熔錫爐(5)、收料裝置(8)和機(jī)架(9);所述放料裝置(1)、所述熔錫爐(5)和所述收料裝置(8)均安裝在所述機(jī)架(9)上,帶材(10)先經(jīng)所述放料裝置(1)豎直向下朝所述熔錫爐(5)內(nèi)傳輸后,再于所述熔錫爐(5)內(nèi)呈斜上狀鍍錫后向前傳輸?shù)剿鍪樟涎b置(8)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,還包括助焊劑裝置(2)和刮錫機(jī)構(gòu)(4);所述放料裝置(1)處于所述機(jī)架(9)一側(cè)的上部,所述熔錫爐(5)處于所述機(jī)架(9)上對(duì)應(yīng)所述放料裝置(1)正下方的位置處,所述助焊劑裝置(2)處于所述機(jī)架(9)上對(duì)應(yīng)所述放料裝置(1)和所述熔錫爐(5)之間的位置處;所述機(jī)架(9)上對(duì)應(yīng)所述熔錫爐(5)的上方設(shè)有用于將帶材(10)浸入所述熔錫爐(5)內(nèi)的刮錫機(jī)構(gòu)(4);
所述收料裝置處于所述機(jī)架(9)上與所述熔錫爐(5)相對(duì)的一側(cè)的上方,帶材(10)從所述放料裝置(1)開始先豎直向下傳輸并穿過所述助焊劑裝置(2)和所述刮錫機(jī)構(gòu)(4)到達(dá)到所述熔錫爐(5)的上方,再被所述刮錫機(jī)構(gòu)(4)下壓浸入到所述熔錫爐(5)內(nèi),并于所述熔錫爐(5)內(nèi)呈斜上狀向前傳輸?shù)剿鍪樟涎b置(8)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,所述機(jī)架(9)上對(duì)應(yīng)所述收料裝置(8)下方的位置處設(shè)有將帶材(10)引導(dǎo)輸送至收料裝置(8)的牽引機(jī)構(gòu)(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,所述熔錫爐(5)固定在所述機(jī)架(9)上,所述刮錫機(jī)構(gòu)(4)相對(duì)于所述熔錫爐(5)可上下位移的安裝在所述機(jī)架(9)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,所述機(jī)架(9) 上對(duì)應(yīng)所述熔錫爐(5)與牽引機(jī)構(gòu)(7)之間的位置處設(shè)有將鍍錫后的帶材(10)冷卻降溫的冷卻裝置(6)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,所述冷卻裝置(6)為鼓風(fēng)機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,還包括用于設(shè)置所述熔錫爐(5)的溫度、所述放料裝置的放料速度以及所述收料裝置的收料速度的控制器(3),所述控制器(3)處于所述機(jī)架(9)的外側(cè)壁上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的帶材熱鍍錫設(shè)備,其特征在于,所述機(jī)架(9)為方形的框狀結(jié)構(gòu)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物





