[實用新型]研磨裝置有效
| 申請號: | 201721507385.6 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN208584372U | 公開(公告)日: | 2019-03-08 |
| 發明(設計)人: | 白井明;川合巖男;宮本裕慈 | 申請(專利權)人: | 白井科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/00 | 分類號: | B24B37/00;B24B55/02;B24B55/06;B24B37/34 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 王加貴 |
| 地址: | 日本國大阪府東*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 研磨 研磨裝置 基板 本實用新型 混合流體 洗滌噴嘴 供給路 中空 蓋側 基材 桌臺 進退移動 兩端連通 嵌入基板 移動手段 噴嘴 流入端 排出口 吐出口 洗滌水 研磨緣 飛散 碎屑 研削 噴射 吸引 開口 流出 覆蓋 配置 | ||
本實用新型的目的為抑制研磨裝置中霧或碎屑的飛散。本實用新型的解決手段為一種研磨裝置,包括:附有吸引功能的桌臺;旋轉砥石,用于研磨由桌臺前方突出的基板的邊緣;蓋,覆蓋在旋轉砥石的外側,并具有嵌入基板的研磨邊緣部分的開口;排出口,位于吸引蓋內;移動手段,用以將桌臺或蓋于左右方向進退移動;基材,支持于蓋側,并配置于基板的研磨邊緣上下;左右方向的中空集蓄部,設置于基材內;上側洗滌噴嘴及下側洗滌噴嘴,于中空集蓄部兩端連通流入端,并使流出吐出口朝向基板的研磨緣;上側供給路及下側供給路,用以于上下集蓄部中間供給洗滌水與空氣的混合流體;以及噴嘴,支持于蓋側,并于研磨部位噴射研削水與空氣的混合流體。
技術領域
本實用新型是關于研磨玻璃基板、陶瓷板等基板的邊緣的裝置。
背景技術
各種基板的邊緣(緣面或緣兩面角落的倒角)研磨加工是使用前后排列的附有吸引保持功能的桌臺及旋轉砥石,在前述桌臺上供給載置基板后,一邊將上述桌臺或旋轉砥石之一左右移動,一邊在移動時借由旋轉砥石研磨桌臺上的基板的邊緣。
該研磨時由噴嘴對研磨部分噴射冷卻水。
當然,冷卻水(霧)是回收至覆蓋旋轉砥石外側的附有吸引功能的蓋(盒)內,且除了冷卻水以外,亦回收隨著研磨飛散的碎屑(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1:日本專利第4745746號公報。
又,根據專利文獻1的研磨方式,是由開口往盒內嵌入工件(基板)的邊緣并借由盒內的旋轉砥石研磨盒內的工件邊緣,由盒內的噴嘴將冷卻水噴射于研磨部位,并在噴射冷卻水或研磨同時將碎屑吸引至盒內。
若根據上述方式,是在供給管途中至前端為止的范圍直列狀排列設置噴嘴,并由各噴嘴噴射冷卻水,因此由各噴嘴噴射的冷卻水的噴射流速會不一致,因該不一致而使各噴嘴無法對研磨部位噴射均一冷卻水。
假設若提高對供給管的冷卻液的供給壓,則泵會大型化并使成本提高,且隨著壓力提升至必要壓以上,冷卻液飛散范圍也會變大,因此碎屑飛散范圍亦變大,而有基板板面的臟污擴大的問題。
尤其,隨著壓力上升,霧的分散范圍亦變大,隨著分散范圍較大,霧所含碎屑的分散范圍亦變大,而所含碎屑對基板板面的附著亦擴大,若在后步驟洗滌并去除碎屑,則會使已于基板板面處理的成膜面產生不良。
實用新型內容
因此,本實用新型的目的是提供一種解決上述各種不良的研磨裝置。
為了解決上述技術問題,本實用新型包括以下結構:
附有吸引功能的桌臺,在上面保持供給載置的基板;
旋轉砥石,在該桌臺前方研磨由前述桌臺前緣突出的上述基板邊緣;
蓋,覆蓋該旋轉砥石外側,且具有用以從上述桌臺側周壁嵌入上述保持基板的研磨邊緣部分的方式設置的開口;
排出口,與該蓋的底面連通設置;
移動裝置,使上述桌臺或蓋于左右方向進退移動;
左右方向為長型的兩基材,支持于上述蓋側,并配置于上述基板的研磨邊緣的上下側;
左右方向為中空的多個集蓄部,設置于該上下的基材內;
上側洗滌噴嘴及下側洗滌噴嘴,在中空集蓄部兩端連通流入端,并使流出吐出口朝向上述基板的研磨邊緣;
上側供給路及下側供給路,設置為在上述集蓄部中間供給洗滌水與空氣的混合流體;以及
噴嘴,支持于上述蓋側,并對上述旋轉砥石與上述基板的研磨部位噴射研削水與空氣的混合流體。
本實用新型相對于現有技術取得了以下技術效果:
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