[實用新型]一種金屬提純裝置有效
| 申請號： | 201721505293.4 | 申請日： | 2017-11-13 |
| 公開（公告）號： | CN207537504U | 公開（公告）日： | 2018-06-26 |
| 發明（設計）人： | 黃玉平;廖相巍;任子平;李德剛;李德軍;康偉;郭慶濤;唐雪峰;呂春風;許孟春 | 申請（專利權）人： | 鞍鋼股份有限公司 |
| 主分類號： | C22B4/08 | 分類號： | C22B4/08;C22B9/04 |
| 代理公司： | 鞍山嘉訊科技專利事務所 21224 | 代理人： | 張群 |
| 地址： | 114000 *** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 坩堝 電加熱底盤 電阻爐 感應爐 金屬提純裝置 小車 本實用新型 鋼錠模 引流砂 真空室 氮氣 電阻爐內部 高純度金屬 金屬凝固 金屬熔化 金屬提純 氣體污染 速度可控 提純效率 溫度可控 真空環境 氫氣 擋砂板 裝填 提純 偏析 澆鑄 氧氣 室內 | ||
【權利要求書】：
1.一種金屬提純裝置，其特征在于：包括真空室以及設置在真空室內的感應爐、電阻爐、坩堝、電加熱底盤、引流砂、擋砂板、鋼錠模、小車；感應爐位于真空室上部，電阻爐位于感應爐下方，坩堝和電加熱底盤設置在電阻爐內部，引流砂裝填在坩堝與電加熱底盤內部，鋼錠模置于小車上，小車位于電阻爐的正下方。
2.根據權利要求1所述的一種金屬提純裝置，其特征在于：所述坩堝底部中心部位和電加熱底盤的中心部位均設有填充孔，引流砂裝填在填充孔中。
3.根據權利要求2所述的一種金屬提純裝置，其特征在于：所述填充孔為圓孔。
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