[實(shí)用新型]一種線圈盤(pán)座、線圈盤(pán)及電磁加熱裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721498565.2
• 申請(qǐng)日: 2017-11-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207369345U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳金華;任玉潔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號(hào): H05B6/40
• 分類號(hào): H05B6/40
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 胡海國(guó)

1.一種線圈盤(pán)座，其特征在于，包括盤(pán)座本體，所述盤(pán)座本體的上盤(pán)面形成有由內(nèi)至外依次環(huán)設(shè)的內(nèi)環(huán)繞線區(qū)、環(huán)形間隔區(qū)及外環(huán)繞線區(qū)；所述內(nèi)環(huán)繞線區(qū)的內(nèi)邊緣與所述外環(huán)繞線區(qū)的外邊緣共同限制出一環(huán)形磁感區(qū)；

所述環(huán)形間隔區(qū)的中環(huán)線鄰近所述環(huán)形磁感區(qū)的中環(huán)線設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的線圈盤(pán)座，其特征在于，所述環(huán)形磁感區(qū)的環(huán)寬為L(zhǎng)0，所述環(huán)形間隔區(qū)的中環(huán)線到所述內(nèi)環(huán)繞線區(qū)內(nèi)邊緣之間的距離為L(zhǎng)1，其中：40％L0≤L1≤60％L0。

3.如權(quán)利要求2所述的線圈盤(pán)座，其特征在于，45％L0≤L1≤55％L0。

4.如權(quán)利要求1所述的線圈盤(pán)座，其特征在于，所述環(huán)形磁感區(qū)在水平面上的投影面積為S0，所述環(huán)形間隔區(qū)在水平面上的投影面積為S1，其中：S1/S0≤20％。

5.如權(quán)利要求4所述的線圈盤(pán)座，其特征在于，10％≤S1/S0≤15％。

6.如權(quán)利要求4所述的線圈盤(pán)座，其特征在于，所述外環(huán)繞線區(qū)所在區(qū)域于水平面上的投影面積為S2，所述內(nèi)環(huán)繞線區(qū)所在區(qū)域于水平面上的投影為S3，其中：S2/S3＞1。

7.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的線圈盤(pán)座，其特征在于，所述內(nèi)環(huán)繞線區(qū)上成形有內(nèi)環(huán)線槽；所述外環(huán)繞線區(qū)上成形有外環(huán)線槽。

8.一種線圈盤(pán)，用于電磁加熱裝置，其特征在于，所述線圈盤(pán)包括：

如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的線圈盤(pán)座；

內(nèi)環(huán)線圈，繞設(shè)于所述線圈盤(pán)座的內(nèi)環(huán)繞線區(qū)內(nèi)；以及

外環(huán)線圈，繞設(shè)于所述線圈盤(pán)座的外環(huán)繞線區(qū)內(nèi)。

9.一種電磁加熱裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求8的線圈盤(pán)。

10.如權(quán)利要求9所述的電磁加熱裝置，其特征在于，所述電磁加熱裝置為電磁爐、電飯煲或壓力鍋。