[實用新型]一種涂膠機

有效

• 申請號: 201721485004.9
• 申請日: 2017-11-09
• 公開（公告）號: CN207746007U
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 張衛麗;朱景河;王學雷;方金波;黃偉東;李建華
• 申請（專利權）人: 信利（惠州）智能顯示有限公司
• 主分類號: B05B13/00
• 分類號: B05B13/00;B05B13/02;B05B14/00;B05B15/68
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 楊利娟

本實用新型涉及半導體制作技術領域，具體公開了一種涂膠機，包括用于承載基板的承載座和設于承載座上方的噴嘴和保護罩，所述保護罩包括外壁保護層和內壁不粘層，本實用新型通過在外壁保護層內涂抹上內壁不粘層，使得承載座在高速旋轉時甩出的光刻膠濺射在內壁不粘層上，由于內壁不粘層與光刻膠之間的摩擦系數小，故光刻膠會沿著內壁向下滑，不會再凝結在保護罩上，減少了后續的基板在涂覆光刻膠時產生的不良缺陷，本實用新型還將保護罩設置為球冠狀或皇冠狀，更有利于光刻膠的向下流動，整個設計結構簡單，使用效果好，提高了產品的性能與質量。

技術領域

本實用新型涉及半導體制作技術領域，尤其涉及一種涂膠機。

背景技術

在半導體制作過程中，光刻膠的涂覆是一道非常重要的工序，將光刻膠涂覆在半導體、導體和絕緣體等樣品上，經過黃光工藝中的曝光、顯影后留下的光刻膠對底層起保護作用，然后采用相應的超凈高純試劑對沒有留下光刻膠的地方進行蝕刻，從而完成將掩膜版Mask圖形轉移到樣品上的一個圖形轉移過程，因此，對光刻膠的涂覆要求比較高。

目前，業界半導體黃光工藝中用到的光刻膠涂膠工藝和設備主要有Spin旋轉涂布、輾涂、浸涂以及噴涂等幾種方式，但在電子工業的半導體制作過程中Spin旋涂因為其光刻膠膜厚涂覆比較均勻而應用得最多，但Spin涂膠機由于自身設備工藝的特點，在Sin臺板高速旋轉時，光刻膠均勻散布整張基板的同時，多余的光刻膠則會被甩出，濺射在Spin涂膠機外罩內壁，若未及時清理或清理不凈，殘膠就會凝結，在后續的涂膠過程中會掉落在基板上，這樣就會造成產品涂覆光刻膠時帶來膠點、異物不良缺陷點，進而影響后續黃光工藝中的曝光顯影效果，使得產品的精細圖形有斷裂、短路或異物等不良，影響產品的性能。

實用新型內容

針對上述技術問題，本實用新型提供了一種對甩出的光刻膠進行及時清理、提高產品性能與質量的涂膠機。

為了解決上述技術問題，本實用新型提供的具體方案如下：一種涂膠機，包括用于承載基板的承載座和設于承載座上方的噴嘴和保護罩，所述保護罩包括外壁保護層和內壁不粘層。

優選的，所述保護罩為球冠狀或皇冠狀，環繞設置于承載座的上方，球冠狀或皇冠狀的保護罩更有利于甩出的光刻膠向下滑落。

優選的，所述內壁不粘層是聚四氟乙烯層或聚甲基硅氧烷層，聚四氟乙烯和聚甲基硅氧烷材料的化學性能穩定，且與光刻膠的摩擦系數很小，使得光刻膠不會凝結在保護罩內壁。

優選的，所述涂膠機還包括用于驅動承載座升降和旋轉的第一驅動機構。

優選的，所述涂膠機還包括與保護罩下端連接的回收罩，回收罩用于回收滑落的光刻膠，便于清理。

優選的，所述保護罩下端與回收罩之間為可拆卸連接，當回收罩裝滿光刻膠時，可將回收罩進行拆卸清洗，循環利用。

進一步優選的，所述涂膠機還包括驅動噴嘴運動的第二驅動機構，第二驅動機構驅動噴嘴運動到待涂覆基板的中心進行噴涂光刻膠。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果在于：本實用新型通過在外壁保護層內涂抹上內壁不粘層，使得承載座在高速旋轉時甩出的光刻膠濺射在內壁不粘層上，由于內壁不粘層與光刻膠之間的摩擦系數小，故光刻膠會沿著內壁向下滑，不會再凝結在保護罩上，減少了后續的基板在涂覆光刻膠時產生的不良缺陷；保護罩為球冠狀或皇冠狀，更有利于光刻膠的向下流動，整個設計結構簡單，使用效果好，提高了產品的性能與質量；保護罩下端還連接有回收罩，對滑落的光刻膠進行回收，便于清理。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例一的整體結構示意圖；

圖2為本實用新型實施例二的整體結構示意圖；

圖3為本實用新型實施例二的回收罩結構示意圖；