[實(shí)用新型]一種PECVD爐有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721482014.7 | 申請日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN207483845U | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉榮文;褚玉寶;孫洪文;沈歡;吳軍蘭;甘職著 | 申請(專利權(quán))人: | 中贛新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 南昌贛專知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 36129 | 代理人: | 文珊;張文宣 |
| 地址: | 335200 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 密封蓋 爐體 密封塞 氣壓管 本實(shí)用新型 溫度均勻性 凹槽封閉 加工效率 密封空間 密封連接 密封配合 密封性能 遠(yuǎn)離爐體 解密封 內(nèi)管口 外管口 側(cè)壁 管內(nèi) 密封 貫穿 | ||
本實(shí)用新型公開一種PECVD爐,包括有爐體、密封蓋、密封塞,爐體呈管狀,爐體上設(shè)有第一氣壓管,密封塞與爐體的內(nèi)管口密封配合,密封蓋設(shè)于密封塞遠(yuǎn)離爐體的一側(cè),密封蓋與密封塞相對的一側(cè)設(shè)有凹槽,密封蓋上設(shè)有第二氣壓管,第二氣壓管一端設(shè)于凹槽內(nèi),第二氣壓管的另一端貫穿凹槽的側(cè)壁;密封蓋與爐體的外管口密封連接;密封蓋、密封塞及爐體把凹槽封閉成一個(gè)密封空間。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型能提高管內(nèi)溫度均勻性,簡化密封與解密封的過程,提高密封性能,提高加工效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及太陽能電池片生產(chǎn)領(lǐng)域,尤其涉及一種PECVD爐。
背景技術(shù)
隨著多晶硅太陽能電池片生產(chǎn)技術(shù)的日漸成熟,行業(yè)對生產(chǎn)電池片的設(shè)備精度要求越來越高。太陽能硅片在加工的過程中需要用到PECVD設(shè)備。PECVD設(shè)備是通過一個(gè)密閉的管子來實(shí)現(xiàn)工藝生產(chǎn),主要組成部分是一根兩頭通透的石英管,外加兩套法蘭及爐門將其合并起來,組成一個(gè)密封體,然后用真空泵將其內(nèi)部抽成真空狀態(tài),往管子內(nèi)部通入氨氣、硅烷等特殊氣體進(jìn)行反應(yīng)。其中,溫度、密封性能對產(chǎn)品的質(zhì)量有重大影響,目前的設(shè)備在靠近管口的位置的溫度往往比管內(nèi)其他地方的溫度略低,這會(huì)降低產(chǎn)品質(zhì)量;另外,目前的設(shè)備的密封性能不夠好,容易造成漏氣現(xiàn)象,而且其密封與解密封的過程繁雜,降低加工效率。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型為解決現(xiàn)有的技術(shù)缺陷,提供了一種PECVD爐,其能提高管內(nèi)溫度均勻性,簡化密封與解密封的過程,提高密封性能,提高加工效率。其具體的技術(shù)方案如下:
本實(shí)用新型公開一種PECVD爐,包括有爐體、密封蓋、密封塞,爐體呈管狀,爐體上設(shè)有第一氣壓管,密封塞與爐體的內(nèi)管口密封配合,密封蓋設(shè)于密封塞遠(yuǎn)離爐體的一側(cè),密封蓋與密封塞相對的一側(cè)設(shè)有凹槽,密封蓋上設(shè)有第二氣壓管,第二氣壓管一端設(shè)于凹槽內(nèi),第二氣壓管的另一端貫穿凹槽的側(cè)壁;密封蓋與爐體的外管口密封連接;密封蓋、密封塞及爐體把凹槽封閉成一個(gè)密封空間。
進(jìn)一步地,密封塞的插入端設(shè)于爐體的內(nèi)部,密封塞的密封端設(shè)有第一裙板,爐體的內(nèi)管口邊緣設(shè)有第一沉臺(tái),第一裙板與第一沉臺(tái)配合,第一裙板與第一沉臺(tái)之間設(shè)有第一密封層。
進(jìn)一步地,爐體的外管口邊緣設(shè)有第二裙板,第二裙板與密封蓋板相對的一側(cè)設(shè)有第二沉臺(tái);密封蓋的端部側(cè)壁與第二沉臺(tái)配合,第二沉臺(tái)與第二裙板之間設(shè)有第二密封層。
進(jìn)一步地,密封塞上設(shè)有隔熱層,隔熱層設(shè)于密封塞的密封端端面。
進(jìn)一步地,凹槽內(nèi)設(shè)有連接座,連接座設(shè)有導(dǎo)向孔,導(dǎo)向孔的孔口面積小于導(dǎo)向孔的內(nèi)徑截面積;密封塞設(shè)有導(dǎo)向桿,導(dǎo)向桿設(shè)于密封塞與凹槽相對的一側(cè),導(dǎo)向桿與導(dǎo)向孔配合,導(dǎo)向桿遠(yuǎn)離密封塞的一端設(shè)有限定塊,限定塊的面積大于導(dǎo)向孔的孔口面積。
進(jìn)一步地,密封蓋與爐體相對的端面?zhèn)缺谠O(shè)有連接桿,連接桿遠(yuǎn)離密封蓋的一端與爐體外壁螺紋連接。
本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型的密封蓋、密封塞及爐體把凹槽封閉成一個(gè)密封空間,通過改變凹槽內(nèi)的氣壓與爐體內(nèi)的氣壓,使兩者之間形成一個(gè)壓力差,從而使密封塞進(jìn)入或退出爐體內(nèi)管,從而對爐體的管口進(jìn)行密封或解密封,簡化密封或解密封的過程,提高效率;爐體工作時(shí),凹槽內(nèi)為真空狀態(tài),可以對爐體管口形成真空保溫作用,提高爐體內(nèi)溫度的均勻性;密封蓋與爐體端口密封連接,可進(jìn)一步增加爐體的密封性能。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的零部件組合示意圖。
圖中標(biāo)注:爐體100,第一氣壓管101,第一沉臺(tái)102,第二沉臺(tái)103,第二裙板104,密封蓋200,第二氣壓管201,連接座202,凹槽203,連接桿204,密封塞300,第一裙板301,隔熱層302,導(dǎo)向桿303,限定塊304,第二密封層400,第一密封層500。
具體實(shí)施方式
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





