[實用新型]一種PECVD爐有效
| 申請號: | 201721482014.7 | 申請日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN207483845U | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發明(設計)人: | 葉榮文;褚玉寶;孫洪文;沈歡;吳軍蘭;甘職著 | 申請(專利權)人: | 中贛新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 南昌贛專知識產權代理有限公司 36129 | 代理人: | 文珊;張文宣 |
| 地址: | 335200 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 密封蓋 爐體 密封塞 氣壓管 本實用新型 溫度均勻性 凹槽封閉 加工效率 密封空間 密封連接 密封配合 密封性能 遠離爐體 解密封 內管口 外管口 側壁 管內 密封 貫穿 | ||
1.一種PECVD爐,包括有爐體(100)、密封蓋(200)、密封塞(300),所述爐體(100)呈管狀,所述爐體(100)上設有第一氣壓管(101),所述密封塞(300)與所述爐體(100)的內管口密封配合,所述密封蓋(200)設于所述密封塞(300)遠離所述爐體(100)的一側,所述密封蓋(200)與所述密封塞(300)相對的一側設有凹槽(203),所述密封蓋(200)上設有第二氣壓管(201),所述第二氣壓管(201)一端設于所述凹槽(203)內,所述第二氣壓管(201)的另一端貫穿所述凹槽(203)的側壁;所述密封蓋(200)與所述爐體(100)的外管口密封連接;所述密封蓋(200)、所述密封塞(300)及所述爐體(100)把所述凹槽(203)封閉成一個密封空間。
2.如權利要求1所述的PECVD爐,其特征在于,所述密封塞(300)插入端設于所述爐體(100)的內部,所述密封塞(300)的密封端設有第一裙板(301),所述爐體(100)的內管口邊緣設有第一沉臺(102),所述第一裙板(301)與所述第一沉臺(102)配合,所述第一裙板(301)與所述第一沉臺(102)之間設有第一密封層(500)。
3.如權利要求2所述的PECVD爐,其特征在于,所述爐體(100)的外管口邊緣設有第二裙板(104),所述第二裙板(104)與所述密封蓋(200)板相對的一側設有第二沉臺(103);所述密封蓋(200)的端部側壁與所述第二沉臺(103)配合,所述第二沉臺(103)與所述第二裙板(104)之間設有第二密封層(400)。
4.如權利要求3所述的PECVD爐,其特征在于,所述密封塞(300)上設有隔熱層(302),所述隔熱層(302)設于所述密封塞(300)的密封端端面。
5.如權利要求1所述的PECVD爐,其特征在于,所述凹槽(203)內設有連接座(202),所述連接座(202)設有導向孔,所述導向孔的孔口面積小于所述導向孔的內徑截面積;所述密封塞(300)設有導向桿(303),所述導向桿(303)設于所述密封塞(300)與所述凹槽(203)相對的一側,所述導向桿(303)與所述導向孔配合,所述導向桿(303)遠離所述密封塞(300)的一端設有限定塊(304),所述限定塊(304)的面積大于所述導向孔的孔口面積。
6.如權利要求1所述的PECVD爐,其特征在于,所述密封蓋(200)與所述爐體(100)相對的端面側壁設有連接桿(204),所述連接桿(204)遠離所述密封蓋(200)的一端與所述爐體(100)外壁螺紋連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





