[實(shí)用新型]一種ESD保護(hù)電路有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721470177.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207367971U | 公開(公告)日: | 2018-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張軍亮;陳利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福建晉潤(rùn)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/02 | 分類號(hào): | H01L27/02;H01L21/8232 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 362200 福建省泉州市*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 esd 保護(hù) 電路 | ||
本實(shí)用新型公開了一種ESD保護(hù)電路,包括GCNMOS結(jié)構(gòu)、達(dá)林頓復(fù)合晶體管和電阻R1、R2;所述GCNMOS結(jié)構(gòu)包括NMOS管、電容C和電阻Rp;所述NPN1和NPN2的基極分別通過所述電阻R1、R2連接到GND,所述NPN1和NPN2的集電極和所述NMOS管的漏極連接到PAD。本實(shí)用新型采用GCNMOS觸發(fā)達(dá)林頓晶體管來(lái)泄放ESD瞬態(tài)電流;與GGNMOS觸發(fā)的達(dá)林頓晶體管相比,GCNMOS觸發(fā)結(jié)構(gòu)具有觸發(fā)電壓Vt1較GGNMOS低且易于調(diào)控的優(yōu)點(diǎn);本實(shí)用新型中GCNMOS對(duì)ESD瞬態(tài)電流的響應(yīng)比達(dá)林頓晶體管更快,且GCNMOS在多指(multi?fingers)結(jié)構(gòu)下能夠均勻開啟,具有GCNMOS和達(dá)林頓晶體管兩條電流泄放路徑,對(duì)受保護(hù)器件的ESD保護(hù)更有效。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種集成電路,特別提供一種ESD保護(hù)電路。
背景技術(shù)
在生活中由兩個(gè)物體相互摩擦或者感應(yīng)出的靜電無(wú)處不在,當(dāng)物體帶有靜電而靠近或接觸不帶電導(dǎo)體時(shí)會(huì)對(duì)后者產(chǎn)生靜電放電(ESD)。通常集成電路(IC)對(duì)這種靜電放電是非常敏感的,靜電放電容易損壞集成電路(IC)內(nèi)部電路,引起其功能失效,造成人力財(cái)力的不必要損失。
對(duì)于BiCMOS和BCD工藝而言,使用傳統(tǒng)NPN作為ESD器件,ESD效率高,但是觸發(fā)電壓往往高于電路工作電壓,因而在ESD應(yīng)力下無(wú)法正常觸發(fā),引起IC內(nèi)部電路失效。
GCNMOS(Gate-Coupled NMOS)通過RC耦合增加?xùn)艠O電壓,與GGNMOS(Gate-Grounded NMOS)相比其具有更低的觸發(fā)電壓Vt1,且在ESD瞬態(tài)電流下具有更快的響應(yīng)時(shí)間,因此其對(duì)低電壓的受保護(hù)器件更有效。另外,GCNMOS為導(dǎo)通型ESD器件,在ESD電流下溝道率先開啟而代替MOS結(jié)構(gòu)漏襯結(jié)擊穿而產(chǎn)生導(dǎo)通電流,這樣在多指(Multi-finger)結(jié)構(gòu)下可以讓多個(gè)finger同時(shí)開啟進(jìn)入導(dǎo)通狀態(tài),每個(gè)finger都來(lái)承受ESD電流,形成較大的電流釋放路徑來(lái)泄放ESD電流。
同極NPN 達(dá)林頓復(fù)合晶體(Darlington)管由兩個(gè)三極管的前極NPN發(fā)射極和后極NPN基極串聯(lián)而成,其電流放大倍數(shù)是兩個(gè)三極管的電流放電倍數(shù)之乘積,因此其用于ESD保護(hù)器件時(shí)具有很高的放電能力,但其基極無(wú)額外觸發(fā)結(jié)構(gòu)時(shí)觸發(fā)電壓過高,無(wú)法成為有效的ESD保護(hù)器件。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了解決上述問題,本實(shí)用新型的目的是提供一種通過GCNMOS來(lái)觸發(fā)達(dá)林頓復(fù)合晶體管的ESD保護(hù)電路及其制造方法。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:一種ESD保護(hù)電路包括GCNMOS結(jié)構(gòu)、達(dá)林頓復(fù)合晶體管和電阻R1、R2;所述GCNMOS結(jié)構(gòu)包括NMOS管、電容C和電阻Rp;所述達(dá)林頓復(fù)合晶體管由兩個(gè)三極管NPN1和NPN2并聯(lián)構(gòu)成;所述NMOS管的柵極分別通過所述電容C和所述電阻Rp連接到PAD端和GND,所述NMOS管的源極連接所述NPN1的基極,所述NPN1的發(fā)射極和所述NPN2的基極相連,所述NPN1和NPN2的基極分別通過所述電阻R1、R2連接到GND,所述NPN1和NPN2的集電極和所述NMOS管的漏極連接到PAD,所述NPN2的發(fā)射極連接到GND。
進(jìn)一步,所述電容C為多晶硅電容。
進(jìn)一步,所述電阻R1、R2和Rp為多晶硅電阻。
本實(shí)用新型的有益效果是:(1)采用GCNMOS觸發(fā)達(dá)林頓復(fù)合晶體管來(lái)泄放ESD瞬態(tài)電流;(2)與GGNMOS觸發(fā)的達(dá)林頓復(fù)合晶體管相比,本專利具有GCNMOS觸發(fā)電壓Vt1較GGNMOS低且易于調(diào)控;(3)GCNMOS對(duì)ESD瞬態(tài)電流的響應(yīng)比達(dá)林頓晶復(fù)合體管更快,對(duì)受保護(hù)器件的ESD保護(hù)更有效;(4)GCNMOS multi-fingers 開啟均勻,且有GCNMOS和達(dá)林頓晶復(fù)合體管兩條電流泄放路徑。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)原理圖。
具體實(shí)施方式
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





