[實(shí)用新型]掩膜板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721423403.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207331040U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張微;曹鵬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/04 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩膜板 | ||
1.一種掩膜板,包括掩膜板本體,所述掩膜板本體上設(shè)置有掩膜圖形,其特征在于,所述掩膜板本體包括相對(duì)的第一表面和第二表面,所述第一表面上設(shè)置有凹槽,所述凹槽位于所述掩膜圖形以外的區(qū)域,所述凹槽底部設(shè)置有貫穿所述掩膜板本體的第一通孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板還包括設(shè)置在所述凹槽內(nèi)的掩膜條,所述掩膜條的厚度小于位于所述凹槽以外的掩膜板本體的厚度,所述掩膜條上設(shè)置有與所述凹槽底部的第一通孔一一對(duì)應(yīng)的第二通孔,所述第一通孔朝向所述掩膜條的投影區(qū)域完全覆蓋所述第二通孔所在區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜條的背離所述第一通孔的表面低于或平齊于所述掩膜板本體的第一表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述凹槽與所述掩膜條一一對(duì)應(yīng),且所述凹槽的延伸方向與所述掩膜條的延伸方向相同,所述凹槽底部設(shè)置有多個(gè)所述第一通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板本體的厚度在270μm~330μm之間;所述掩膜條的厚度在30μm~50μm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第二通孔的開(kāi)口尺寸在95μm~105μm之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述凹槽的寬度在5mm~6mm之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第一通孔的開(kāi)口尺寸在3mm~4mm之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板還包括安裝框架,所述掩膜板本體固定在所述安裝框架上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜圖形為貫穿所述掩膜板本體的蒸鍍開(kāi)口,所述掩膜板本體上設(shè)置有多個(gè)所述掩膜圖形,多個(gè)所述掩膜圖形排成多行多列,所述掩膜板本體上設(shè)置有多個(gè)所述凹槽,每個(gè)所述凹槽沿所述掩膜圖形排列的列方向延伸,每相鄰兩個(gè)所述凹槽之間設(shè)置有多個(gè)所述掩膜圖形。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





