[實用新型]光罩盒有效
| 申請號: | 201721419468.X | 申請日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN207799329U | 公開(公告)日: | 2018-08-31 |
| 發明(設計)人: | 邱銘隆;陳延方 | 申請(專利權)人: | 中勤實業股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 馬雯雯;臧建明 |
| 地址: | 中國臺灣桃*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 盒體 光罩盒 第二定位部 第一定位部 光罩 鎖扣機構 滑扣 扣勾 本實用新型 閉合狀態 傳送過程 方向相對 容置空間 便利性 可靠度 擋止 蓋合 開合 雜物 垂直 損傷 支撐 污染 配合 | ||
1.一種光罩盒,其特征在于,包括:
第一盒體,具有多個第一定位部;
第二盒體,可沿第一方向相對所述第一盒體開合,并在蓋合于所述第一盒體時與所述第一盒體共同形成容置空間,其中所述第二盒體具有多個第二定位部,所述多個第二定位部與所述多個第一定位部相配合以共同定位并支撐光罩;及
鎖扣機構,包括設于所述第一盒體及所述第二盒體中的一者的滑扣單元,及設于所述第一盒體及所述第二盒體中的另一者的扣勾單元,其中當所述光罩盒在所述第二盒體與所述第一盒體相對蓋合的閉合狀態下時,所述滑扣單元與所述扣勾單元可相互扣合以將所述光罩盒固定于所述閉合狀態,且每一所述第一定位部與對應的所述第二定位部分別沿各垂直于所述第一方向的方向相互擋止,以阻止所述第一盒體與所述第二盒體沿垂直于所述第一方向的方向相對移動。
2.根據權利要求1所述的光罩盒,其特征在于,所述滑扣單元包括固定于其所設在的所述第一盒體或所述第二盒體且沿與所述第一方向相交的第二方向延伸的滑軌,及至少一設于所述滑軌的卡塊,所述卡塊具有可滑動地結合于所述滑軌的操作部,及由所述操作部朝向所述容置空間凸伸的擋止部,且所述卡塊可沿所述滑軌在鎖扣位置及釋鎖位置之間移動,所述扣勾單元具有固定于其所設在的所述第一盒體或所述第二盒體的本體,及至少一由所述本體延伸并與對應的所述至少一卡塊相配合的卡勾,所述卡勾具有可受擠壓而彈性變形地靠向所述容置空間的彈性段,且所述彈性段的末端形成抵靠部;
其中,當所述卡塊位于所述釋鎖位置時,所述卡塊的所述擋止部與所述卡勾的所述抵靠部其中一者不在其中另一者沿所述第一方向移動的路徑上,則所述第二盒體可相對于所述第一盒體進行開合;而當所述卡塊位于所述釋鎖位置且所述光罩盒在所述第二盒體與所述第一盒體相對蓋合的閉合狀態下時,所述卡塊可沿著所述滑軌滑動至所述鎖扣位置而使得所述卡勾的所述抵靠部抵靠于所述卡塊的所述擋止部并為所述擋止部所擋止,以將所述光罩盒固定于所述閉合狀態;
又,當所述第二盒體未蓋合于所述第一盒體且所述卡塊位于所述鎖扣位 置時,所述卡塊的所述擋止部與所述卡勾的所述抵靠部其中一者在其中另一者沿所述第一方向移動的路徑上,而在所述第二盒體轉換至與所述第一盒體相對蓋合的閉合狀態、所述卡勾的所述彈性段與所述擋止部相對移動的過程中,所述彈性段在通過所述擋止部時因受其擠壓而彈性變形地靠向所述容置空間并在通過所述擋止部后回復原狀,而使所述抵靠部抵靠于所述擋止部并為所述擋止部所擋止,以將所述光罩盒固定于所述閉合狀態。
3.根據權利要求2所述的光罩盒,其特征在于,所述彈性段具有可相對于所述擋止部滑動的導引面。
4.根據權利要求2所述的光罩盒,其特征在于,所述滑扣單元的所述滑軌設有兩所述卡塊,所述扣勾單元具有兩個分別與兩所述卡塊相配合的所述卡勾。
5.根據權利要求4所述的光罩盒,其特征在于,各所述卡勾的所述彈性段具有可相對于對應的所述卡塊的所述擋止部滑動的導引面。
6.根據權利要求5所述的光罩盒,其特征在于,各所述卡勾還具有由所述本體沿著所述扣勾單元所設在的所述第一盒體或所述第二盒體表面朝向設有所述滑扣單元的所述第二盒體或所述第一盒體延伸的固定段,及由所述固定段往遠離所述容置空間方向彎折延伸的連接段,所述彈性段由所述連接段彎折與所述固定段相對且所述導引面漸往遠離所述固定段方向斜向延伸。
7.根據權利要求6所述的光罩盒,其特征在于,所述滑軌具有與設有所述滑扣單元的所述第一盒體或所述第二盒體連接的安裝部,及兩個自所述安裝部朝遠離所述容置空間方向彎折延伸且彼此沿所述第二方向相間隔的軌道部,兩卡塊分別可滑動的結合于兩軌道部。
8.根據權利要求7所述的光罩盒,其特征在于,各所述軌道部具有供對應的所述卡塊的所述操作部套設結合的平板段,及連接所述平板段與所述安裝部的支撐段,且所述平板段具有位于相反兩側的第一表面及第二表面,所述第一表面朝向所述容置空間并與所述支撐段連接。
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
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G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





