[實用新型]一種磁控濺射鍍膜機的旋轉(zhuǎn)靶有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721361487.1 | 申請日: | 2017-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN207294879U | 公開(公告)日: | 2018-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 宋宇;江維;熊建;全強 | 申請(專利權(quán))人: | 咸寧南玻節(jié)能玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
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| 地址: | 437100 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁控濺射 鍍膜 旋轉(zhuǎn) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于玻璃鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種磁控濺射鍍膜機的旋轉(zhuǎn)靶。
背景技術(shù)
真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜,近十年來發(fā)展相當(dāng)快,已經(jīng)成為當(dāng)今最先進的表面處理方式之一。真空鍍膜生產(chǎn)是實現(xiàn)膜層附著在工件表面,以獲得需要的工件表面特性。真空濺射鍍膜是利用靶材發(fā)生濺射,使濺射物附著在工件表面形成膜層,即達到鍍膜,磁控濺射鍍膜機是常見的真空濺射鍍膜設(shè)備,然而,由于其上設(shè)置的磁控濺射靶中,靶材和靶芯相對不動,而靶芯上的磁塊分布難于相對均勻,且難以保證不同磁塊的磁性一致,使得生產(chǎn)中磁場強度有差異,濺射不均勻,影響鍍膜質(zhì)量,因而優(yōu)待改進。由于磁控濺射過程中會產(chǎn)生高溫,而現(xiàn)有技術(shù)沒能有效給予降溫,導(dǎo)致磁控效果降低,不利于生產(chǎn)。
現(xiàn)有技術(shù)中的旋轉(zhuǎn)靶冷卻效果較差,且用于冷卻的冷卻管使用壽命較短,強度較低,由于其更換不便,導(dǎo)致其使用成本較高,更換周期短。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是針對現(xiàn)有的技術(shù)存在的上述問題,提供一種磁控濺射鍍膜機的旋轉(zhuǎn)靶,本實用新型所要解決的技術(shù)問題是如何延長冷卻管的使用壽命,且優(yōu)化冷卻效果。
本實用新型的目的可通過下列技術(shù)方案來實現(xiàn):一種磁控濺射鍍膜機的旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于,本旋轉(zhuǎn)靶包括靶芯、冷卻管、驅(qū)動裝置、磁塊和靶材,所述冷卻管位于所述靶芯內(nèi),所述靶芯的一端通過若干個支撐套與靶材固定相連,所述靶芯的另一端與靶材之間具有一容納腔,所述磁塊位于所述容納腔內(nèi),且磁塊包裹在靶芯上,所述冷卻管具有進水端和出水端,所述冷卻管的內(nèi)壁上具有螺旋狀的導(dǎo)槽。
冷卻管內(nèi)壁上設(shè)置的螺旋狀的導(dǎo)槽,能夠使冷卻水形成渦流經(jīng)過,從而增強冷卻效果,而且,由于冷卻管內(nèi)壁設(shè)置的導(dǎo)槽,冷卻管的強度得到加強,使用壽命延長,大大降低了使用成本。
在上述的一種磁控濺射鍍膜機的旋轉(zhuǎn)靶中,所述驅(qū)動裝置包括固定設(shè)置在靶材上的錐齒輪一、錐齒輪二和驅(qū)動齒輪,所述錐齒輪一和錐齒輪二對稱設(shè)置,且齒牙相向設(shè)置,所述驅(qū)動齒輪上具有能夠分別與錐齒輪一和錐齒輪二嚙合的兩個傾斜設(shè)置的齒圈。
為了防止冷卻管內(nèi)壁設(shè)置的導(dǎo)槽對旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)性的影響,驅(qū)動裝置采用錐齒輪一和錐齒輪二正對設(shè)置的方式,然后通過驅(qū)動齒輪與之配合,達到提高旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)性,增強嚙合傳動的強度等效果。
在上述的一種磁控濺射鍍膜機的旋轉(zhuǎn)靶中,所述磁控固定在一軸套上,所述軸套與靶芯固定相連,所述軸套的兩端分別具有一個屏蔽擋圈。
屏蔽擋圈能夠在一定程度上防止磁塊的干擾。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有以下優(yōu)點:
1、冷卻管內(nèi)壁上設(shè)置的螺旋狀的導(dǎo)槽,能夠使冷卻水形成渦流經(jīng)過,從而增強冷卻效果,而且,由于冷卻管內(nèi)壁設(shè)置的導(dǎo)槽,冷卻管的強度得到加強,使用壽命延長,大大降低了使用成本。
2、為了防止冷卻管內(nèi)壁設(shè)置的導(dǎo)槽對旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)性的影響,驅(qū)動裝置采用錐齒輪一和錐齒輪二正對設(shè)置的方式,然后通過驅(qū)動齒輪與之配合,達到提高旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)性,增強嚙合傳動的強度等效果。
附圖說明
圖1是本旋轉(zhuǎn)靶的截面圖。
圖中,1、靶芯;2、冷卻管;21、進水端;22、出水端;23、導(dǎo)槽;3、驅(qū)動裝置;31、錐齒輪一;32、錐齒輪二;33、驅(qū)動齒輪;4、磁塊;5、靶材;61、支撐套;62、容納腔;71、軸套;72、屏蔽擋圈。
具體實施方式
以下是本實用新型的具體實施例并結(jié)合附圖,對本實用新型的技術(shù)方案作進一步的描述,但本實用新型并不限于這些實施例。
如圖1所示,本旋轉(zhuǎn)靶包括靶芯1、冷卻管2、驅(qū)動裝置3、磁塊4和靶材5,冷卻管2位于靶芯1內(nèi),靶芯1的一端通過若干個支撐套61與靶材5固定相連,靶芯1的另一端與靶材5之間具有一容納腔62,磁塊4位于容納腔62內(nèi),且磁塊4包裹在靶芯1上,冷卻管2具有進水端21和出水端22,冷卻管2的內(nèi)壁上具有螺旋狀的導(dǎo)槽23;冷卻管2內(nèi)壁上設(shè)置的螺旋狀的導(dǎo)槽23,能夠使冷卻水形成渦流經(jīng)過,從而增強冷卻效果,而且,由于冷卻管2內(nèi)壁設(shè)置的導(dǎo)槽23,冷卻管2的強度得到加強,使用壽命延長,大大降低了使用成本。
驅(qū)動裝置3包括固定設(shè)置在靶材5上的錐齒輪一31、錐齒輪二32和驅(qū)動齒輪33,錐齒輪一31和錐齒輪二32對稱設(shè)置,且齒牙相向設(shè)置,驅(qū)動齒輪33上具有能夠分別與錐齒輪一31和錐齒輪二32嚙合的兩個傾斜設(shè)置的齒圈;為了防止冷卻管2內(nèi)壁設(shè)置的導(dǎo)槽23對旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)性的影響,驅(qū)動裝置3采用錐齒輪一31和錐齒輪二32正對設(shè)置的方式,然后通過驅(qū)動齒輪33與之配合,達到提高旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)性,增強嚙合傳動的強度等效果。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





