[實用新型]一種磁控濺射鍍膜機的旋轉靶

有效

• 申請號: 201721361487.1
• 申請日: 2017-10-18
• 公開（公告）號: CN207294879U
• 公開（公告）日: 2018-05-01
• 發明（設計）人: 宋宇;江維;熊建;全強
• 申請（專利權）人: 咸寧南玻節能玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁控濺射鍍膜機的旋轉靶，其特征在于，本旋轉靶包括靶芯(1)、冷卻管(2)、驅動裝置(3)、磁塊(4)和靶材(5)，所述冷卻管(2)位于所述靶芯(1)內，所述靶芯(1)的一端通過若干個支撐套(61)與靶材(5)固定相連，所述靶芯(1)的另一端與靶材(5)之間具有一容納腔(62)，所述磁塊(4)位于所述容納腔(62)內，且磁塊(4)包裹在靶芯(1)上，所述冷卻管(2)具有進水端(21)和出水端(22)，所述冷卻管(2)的內壁上具有螺旋狀的導槽(23)。

2.根據權利要求1所述一種磁控濺射鍍膜機的旋轉靶，其特征在于，所述驅動裝置(3)包括固定設置在靶材(5)上的錐齒輪一(31)、錐齒輪二(32)和驅動齒輪(33)，所述錐齒輪一(31)和錐齒輪二(32)對稱設置，且齒牙相向設置，所述驅動齒輪(33)上具有能夠分別與錐齒輪一(31)和錐齒輪二(32)嚙合的兩個傾斜設置的齒圈。

3.根據權利要求2所述一種磁控濺射鍍膜機的旋轉靶，其特征在于，所述磁控固定在一軸套(71)上，所述軸套(71)與靶芯(1)固定相連，所述軸套(71)的兩端分別具有一個屏蔽擋圈(72)。