[實用新型]一種可旋轉的PECVD鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201721336978.0
• 申請日: 2017-10-18
• 公開（公告）號: CN207405236U
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 劉振波;張向陽
• 申請（專利權）人: 深圳海容高新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種可旋轉的PECVD鍍膜裝置，所述鍍膜裝置具有一矩形的鍍膜空腔，鍍膜空腔的前端開口且開口鉸接有一可打開的密封門，鍍膜空腔的左右側壁分別固定安裝有正對設置的陽極電極板和陰極電極板，所述陽極電極板連接射頻電源，所述陰極電極板接地，所述鍍膜空腔上下壁之間設置有絲桿，所述絲桿的一端連接一驅動馬達，所述絲桿上設置有相配的可上下移動的工件托盤，所述工件托盤包括一個可旋轉的大盤和設置于大盤上多個可旋轉的小盤，本實用新型的有益效果在于，本鍍膜裝置能夠使待加工產品發生自轉、公轉、升降復合運動，待加工產品在腔體內充分的接觸納米材料，形成了比較致密和均勻的納米涂層，涂層的質量有了較大的改善。

技術領域

本實用新型屬于PECVD設備領域，更具體地說，是指一種可旋轉的PECVD鍍膜裝置。

背景技術

PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）通過等離子放電產生活性基團來促進薄膜生成的反應，能顯著降低CVD薄膜制備的溫度，使某些原本需要在高溫下進行的CVD鍍膜反應可以在較低溫度下進行。

PECVD所使用的設備包含電極板，目前PECVD設備鍍膜腔體為固定結構，鍍膜時，將待鍍膜產品放入到鍍膜腔體內的層架上，進行鍍膜，目前在實際的納米鍍膜過程中，發現鍍膜產品上的納米薄膜厚度不一，不夠均勻，一致性較差，某些區域可能膜層缺失，因此急需對設備進行改進以避免這種不良現象。

實用新型內容

本實用新型為了克服現有技術之不足，提出了一種可旋轉的PECVD鍍膜裝置。

本實用新型是通過下述技術方案來解決上述技術問題的。

一種可旋轉的PECVD鍍膜裝置，所述鍍膜裝置內部設有一矩形鍍膜空腔，鍍膜空腔的前端開口且開口鉸接有一可打開的密封門，鍍膜空腔的左右側壁分別固定安裝有正對設置的陽極電極板和陰極電極板，所述陽極電極板連接射頻電源，所述陰極電極板接地，所述鍍膜空腔上下壁之間設置有絲桿，所述絲桿的一端連接一驅動馬達，所述絲桿上設置有相配的可上下移動的工件托盤，所述工件托盤包括一個可旋轉的大盤和設置于大盤上多個可旋轉的小盤。

更具體的，所述工件托盤的數量有多個，呈上下間隔的連接至絲桿。

更具體的，所述工件托盤包括底座，所述底座通過一推力軸承支撐起所述的大盤，所述大盤由一大盤電機及傳動齒輪驅動發生旋轉，所述大盤的上表面開設有多個小盤安裝槽，所述多個小盤安裝槽內通過多個推力軸承支撐起多個小盤，每個小盤由一個小盤電機驅動發生旋轉。

本實用新型的有益效果在于，本鍍膜裝置能夠使待加工產品發生自轉、公轉、升降等多種復合運動，待加工產品在腔體內充分的接觸電離后的納米材料，在產品表面形成了比較致密和均勻的納米涂層，涂層的質量有了較大的改善，可以達到較高程度的防水等級。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為鍍膜空腔內工件托盤的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖給出本實用新型較佳實施例，以詳細說明本實用新型的技術方案。

如圖1至圖2，實施例為一種可旋轉的PECVD鍍膜裝置，所述PECVD裝置具有一矩形的鍍膜空腔，鍍膜空腔的前端開口且開口鉸接有一可打開的密封門，鍍膜空腔的左右側壁（1，3）分別固定安裝有正對設置的陽極電極板11和陰極電極板33，所述陽極電極板11連接射頻電源，所述陰極電極板33接地，所述鍍膜空腔上下壁（2，4）之間設置有縱向延伸的絲桿23，所述絲桿23的一端連接一驅動馬達（圖中下壁4的下方，未示出），所述絲桿23上設置有相配的可上下移動的工件托盤110，所述工件托盤110包括一個可旋轉的大盤10和設置于大盤上四個可旋轉的小盤。